GB_T 29505-2013 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法.docx

ICS29.045

H80

中华人民共和国国家标准GB/T29505—2013

硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法

Testmethodformeasuringsurfaceroughnessonplanarsurfacesofsiliconwafer

2013-05-09发布

2014-02-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布

中国国家标准化管理委员会

I

GB/T29505—2013

目次

前言 Ⅲ

1范围 1

2规范性引用文件 1

3术语和定义 1

4方法提要 2

5干扰因素 3

6仪器设备 3

7粗糙度测量步骤 5

8报告 8

附录A(规范性附录)粗糙度测量规范和有关输出的例子 9

附录B(资料性附录)有关硅片粗糙度分布的试验和模型(源于SEMIM40附录) 11

参考文献 25

Ⅲ

GB/T29505—2013

前言

本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。

本标准起草单位：有研半导体材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所。

本标准主要起草人：孙燕、李莉、卢立延、翟富义、向磊。

1

GB/T29505—2013

硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法

1范围

本标准提供了硅片表面粗糙度测量常用的轮廓仪、干涉仪、散射仪三类方法的测量原理、测量设备

和程序，并规定了硅片表面局部或整个区域的标准扫描位置图形及粗糙度缩写定义。

本标准适用于平坦硅片表面的粗糙度测量；也可用于其他类型的平坦晶片材料，但不适用于晶片边

缘区域的粗糙度测量。

本标准不适用于带宽空间波长≤10nm的测量仪器。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文

件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。

GB/T14264半导体材料术语

3术语和定义

GB/T14264界定的以及下列术语和定义适用于本文件。

3.1

自相关函数autocorrelationfunction

强谱线密度函数的傅立叶转换。它表示一个表面轮廓和经滑移或横向移动的同样轮廓之间关于其

自身的相似性。

3.2

自相关长度autocorrelationlength

要求横向滑动以把自相关函数简化为一个等于e-1乘以它的0滑动值的值。有时使用10%或者

0值定义替代e-1。

3.3

双向反射分布函数bi-directionalreflectancedistributionfunction;BRDF

由一个表面来描述光散射的分布，以不同的发光度(辐照度)归一化不同的发光(辐射率),并且近似

于每单位投射的立体角散射功率除以入射功率。

3.4

尼奎斯特准则Nyquiscriterion

检测到的最短空间波长。它是两倍于取样间隔。

3.5

一维光栅方程式one-dimensionalgratingequation

按最普通的形式，它是一个由一维正弦光栅给定衍射级位置的表达式。

3.6

功率谱密度(PSD)函数powerspectraldensity(PSD)function

一个表面特征函数，它比例于表面的傅立叶变换系数的平方，并且可以看作是每单位空间频率的粗

2

GB/T29505—2013

糙度率。

3.7

分辨能力的瑞利判据Rayleighcriterionofresolvingpower

利用一个图形的最大与另一个图形的最小迭加来辨别一对衍射图形的条件。当一个透镜没有像差时，点状物体的像呈现衍射图形。当一个图形原理上的最大与另外一个图形的第一个最小相遇时，把这个像描述为被分解了。当从仪器的物镜观察点状物间的距离可分辨时，这个判据是适用的，对于圆形透

镜为：

其中NA是物镜的数值孔径(阑),λ是照射光波长。

3.8

空间频带宽度spatialbandwidth

给定仪器运行的波长范围。

3.9

空间频率spatialfrequency

空间波长(λs)的倒数。

3.10

空间波长spatialwavelength

在一个纯正弦轮廓的相邻两峰间的间隔。

3.11

传递函数transferfunction

在全部测量空间波长范围内仪器