一种等离子体刻蚀设备及方法.pdfVIP

下载本文档

8
0
约1.14万字
约 11页
2023-12-13 发布于四川
举报
版权申诉

一种等离子体刻蚀设备及方法.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明提供一种等离子体刻蚀设备及方法，包括反应腔室、第一电极、第二电极和过滤装置，过滤装置为带正电荷的网状结构，设置于第一电极和第二电极之间。活性气体在电场作用下解离成第一等离子体，第一等离子体可能存在分布不均匀，或者局部电子密度较大的情况，当第一等离子体经过过滤装置时，第一等离子体中多余的电子吸附在过滤装置上，同时等离子体的均匀性也有所提高；透过过滤装置的等离子体为第二等离子体，与第一等离子体相比，第二等离子体中电子和离子的密度、分布更加均匀，第二等离子体移动至第二电极，对待刻蚀的晶圆进行刻蚀

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117219486A

(43)申请公布日2023.12.12

(21)申请号202311286699.8

(22)申请日2023.10.07

(71)申请人上海积塔半导体有限公司

地址2

您可能关注的文档

文档评论（0）

知识产权出版社 + 关注: 官方认证

文档贡献者

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

咨询Ta 进入空间

用户编号：5333241143000144

认证主体北京中献电子技术开发有限公司

IP属地四川

统一社会信用代码/组织机构代码: 91110108102011667U

1亿VIP精品文档

更多 >

一种等离子体刻蚀设备及方法.pdfVIP