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矩形磁控溅射靶磁场仿真与优化设计的开题报告

一、研究背景和意义

磁控溅射是一种常见的薄膜制备技术，在太阳能电池、平板显示器、光伏电池等领域有广泛应用。磁控溅射靶材是制备过程中最为关键的部分，其磁场分布直接影响着溅射效率、薄膜质量等参数。矩形磁控溅射靶经过多年研究和工程实践已得到广泛应用，尤其在大面积薄膜制备方面具有独特优势。本文将对矩形磁控溅射靶的磁场进行仿真，并优化设计参数，提高磁控溅射的效率和稳定性，具有一定的理论和实际应用意义。

二、研究内容

1.基于有限元方法建立磁场数学模型，利用FEM软件进行数值仿真；

2.优化磁控溅射靶的几何结构，改进磁场分布，提高溅射效率和膜质量；

3.分析不同工艺工况下磁场的影响，进一步优化磁场参数。

三、研究方法

本文将采用有限元方法和FEM软件对矩形磁控溅射靶的磁场进行数值仿真，得出磁场分布规律。然后，对磁控溅射靶的几何结构进行调整，并重新进行仿真，优化磁场分布。最后，进行不同工艺工况下的磁场分析，分析磁场在不同工况下的变化规律，进一步提高磁场优化设计的稳定性。

四、预期成果

1.建立矩形磁控溅射靶磁场数学模型，并进行FEM仿真分析；

2.优化设计矩形磁控溅射靶的几何结构，改善磁场分布，提高溅射效率和薄膜质量；

3.深入分析不同工艺工况下磁场的变化规律，提高磁场优化设计的稳定性。

五、研究难点

1.如何准确地建立磁场数学模型，并进行FEM仿真分析；

2.如何优化设计矩形磁控溅射靶的几何结构，改善磁场分布，提高溅射效率和薄膜质量；

3.如何分析不同工艺工况下磁场的变化规律，提高磁场优化设计的稳定性。

六、研究进展

目前正在进行有限元方法建立磁场数学模型，并进行仿真分析的研究。预计近期能够初步建立数学模型，并进行仿真分析。

七、研究计划

本研究计划于2022年开始，在2023年完成仿真分析和优化设计，2024年进行不同工艺工况下磁场分析，2025年完成论文撰写。