英文原子层沉积改性有序介孔二氧化硅膜.pdf

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DOI:10.1002/cvde.201106931

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AtomicLayerDeposition-ModifiedOrderedMesoporous

SilicaMembranes**

ByDavidE.CassidyandWilliamJ.DeSisto*

Mesoporoussilicamembranes,preparedbysurfactant-templatingwithaporediameterof4nmonanaluminasupport,are

modifiedbyatomiclayerdeposition(ALD)ofaluminumoxide.ALDofaluminumoxideisachievedusingtrimethylaluminum

(TMA)andwaterasreactants.Membranesmodifiedupto50ALDreactioncyclesarecharacterizedperiodicallyduring

progressivereactioncyclestoprovidedetailsoftheporemodificationprocess.Adecreaseinlightgaspermeance,poresize

distributionshifttolowerporesizes,andadecreaseinporosityprovideevidenceforpore-sizereductionthroughALD.Further

analysisofthedataindicatesthattheALDreactionfavorslargerporesanddefects,andbecomeslessefficientastheporesize

decreases.

1.IntroductionseveralreactionchemistriesincludingSiO,AlO,TiO,

2232

andothers.

Asuperiorgas-separationmembranewillbeultrathinforInapplyingALDtomembranesynthesis,theultimate

highthroughput,andhomogeneousinporesize,withahighgoalishighlyeffectivemolecularseparations.Thisis

porosity/lowtortuosityformaximummolecularsieving.Inachievedbytuningthefinalporesizeandsurface

addition,manyseparationapplicationsrequirethethermo-functionality.Astheporediametershrinkstomolecular

chemicalstabilityprovidedbyinorganicmembranes.dimensions,thefinal

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