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- 2024-01-13 发布于江苏
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摘要
摘要
二元金属氧化物基阻变存储器具有简单的“上电极/阻变层/下电极”三明治结构,基
于阻变层中氧缺陷组成的导电细丝连通/断开上下电极实现数据存储,展示出高密度、
高速度、低功耗及抗辐照的性能优势,被认为是最有前景的下一代非挥发性存储器之一。
然而,辐照会诱导新的氧缺陷,且氧缺陷在电场作用下可移动,进而导致氧缺陷的重新
分布,最终影响高低阻态、操作电压等性能。本文以TiO2基阻变存储器为对象,研究
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