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一种可提高刻蚀一致性的刻蚀盘结构.pdfVIP

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  • 2024-01-20 发布于四川
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一种可提高刻蚀一致性的刻蚀盘结构.pdf

    一种可提高刻蚀一致性的刻蚀盘结构，属于晶圆加工技术领域，为了解决外圈的刻蚀区域较大，在刻蚀的过程中内外圈的温度不一致导致刻蚀速率差异的问题；本发明通过刻蚀母盘和刻蚀子盘的分体结构设计，以及螺旋气流通道的设计，可使冷却气体均匀地分布在刻蚀子盘的表面；本发明通过螺旋气流通道对每个刻蚀子盘进行针对性冷却，通过分散组装路径板依次对刻蚀母盘的外边缘、外圈至内圈进行冷却，在双重冷却操作下，使冷却气体能均匀接触刻蚀盘的内外圈，减少温度差异，以确保每个刻蚀子盘上的晶圆片在刻蚀过程中具有相同的温度环境，从而提高刻

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117423599A

    (43)申请公布日2024.01.19

    (21)申请号202311475840.9

    (22)申请日2023.11.03

    (71)申请人扬州中科半导体照明有限公司

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