物理气相沉积技术.pptVIP

物理气相沉积技术第1页，讲稿共25页，2023年5月2日，星期三PVD原理PVD特点PVD分类PVD现状与发展PVD应用第2页，讲稿共25页，2023年5月2日，星期三

原理：物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源—固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。

第3页，讲稿共25页，2023年5月2日，星期三PVD的物理原理示意图块状材料(靶材)薄膜物质输运能量输运能量以气态方式进行气态基底第4页，讲稿共25页，2023年5月2日，星期三“物理气相沉积”通常有下面三个工艺步骤：所生长的材料（靶材）以物理的方式由固体转化为气体生长材料的蒸汽经过一个低压区域到达衬底蒸汽在衬底表面上凝结，形成薄膜第5页，讲稿共25页，2023年5月2日，星期三几种常见的薄膜结构单层膜周期结构多层膜SubstrateASubstrateABAB第6页，讲稿共25页，2023年5月2日，星期三PVD原理PVD特点PVD分类PVD现状与发展PVD应用第7页，讲稿共25页，2023年5月2日，星期三PVD特点1234物理气相沉积获得的沉积层薄。涂层的纯度高单击此处添加标题沉积层材料来自固体物质源，