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第六章场发射显示器和

场离子显示器6．1．1FED的发展概况场发射显示器(fieldemissiondisplay，FED)，即场致发射阵列平板显示器或称为真空微尖平板显示器(MFD)，是一种新型的自发光平板显示器件。FED实际上是一种很薄的CRT显示器，其具备下述优点：①冷阴极发射；②低的工作电压；③自发光和高亮度；④宽视角；⑤高速响应；⑥很宽的环境温度变化范围。场发射显示器因此，FED已被认为是未来将起重要作用的一种平板显示器件和技术，甚至有可能在办公设备和家用显示器件方面取代CRT显示器。图6—1给出FED的工作原理。对栅极施加一定的电压，可以使微尖发射电子，电子被阳极电压加速并打到荧光屏上，使荧光屏发光。阴极和阳极间的距离很近，保证电子在传输过程中不会散焦。场发射显示器6.1.2FED平面显示器件的构成及制作工艺FED平面显示器是一个真空电子器件，它由两块平板玻璃，而周边用特殊的玻璃封接而成，如图6—2所示。两块平板玻璃之间有200um间隙，并用玻璃隔离子支撑。底板上有一个排气管可抽气。场发射显示器场发射显示器场发射显示器FED的制造过程与LCD很类似；采用的玻璃平板与LCD的一样；薄膜沉积和光刻技术也很相拟。图6—4给出微尖制作过程，两步光刻过程稍微特殊一些。①微孔阵列的光刻，有很高的光刻精度(1．5um)，这一步骤可用紫外光步进曝光来实现；②用蒸发和刻蚀可制造自对中的微尖。场发射显示器用上述方法制造的阴极必需具备下述要求： ①在整个表面上具有均匀的电子发射； ②提供充分的电流，以便在低电压下获得很高的亮度； ③在微尖和栅极之间没有短路。采用下述技术可以满足上述要求： ①在导通的阴极和选通的微尖之间利用一个电阻层来控制电流，使每一选通的像素由于其中含有大量的微尖，可保证发射的均匀性； ②高发射密度(1×104微尖／mm2)和小的尺寸(1.5um直径)，使得在100v激励电压下，获得1mA／mm2电流密度，从而实现高亮度。场发射显示器场离子显示器（FID）场离子显示器(fieldiondisplay，FID)，是一种既能够克服FED的困难，实现CRT平板化，又能保持CRT优良图像质量的新型彩色平板显示器。6．2．1场离子发射原理场离子发射是一种常见的电学现象，在17世纪电学发展的初期就被发现。大气中的尖端放电，实际上就是场离子发射。1747年，富兰克林曾利用大气中的尖端放电，做成了避雷针。场离子显示器（FID）当气体分子靠近带电导体尖端时，能被尖端电场极化，形成偶极子而被尖端吸引。当气体原子与导体尖端表面接近到只有“埃”(即A，1A=0.1nm)量级的距离时，它们之间的场强会变得很强。这时，即使带电导体尖端表面原有场强E不高，也可使气体原子电离，形成离子，同时被尖端排斥而发射。场离子显示器（FID）场离子发射比场电子发射容易实现。场电子发射要求金属表面场强E达到107v／cm(1V／nm)以上。而场离子发射，因受气体电离能等外在因素的影响，尖端表面场强E低于106V／cm(0.1V／nm)仍可产生离子发射。场离子发射在大气压或低气压(10-3～10-2Pa)下都可进行，而不像场电子发射那样，要求在超高真空(10-7Pa)下进行。因此，基于场离子发射的场离子显示器，比基于场电子发射的场发射显示器，在加工难度上要低得多。场离子显示器（FID）图6—6表示场离子发射的过程。由于在尖端表面凸起部分的原子上电场较强，因此常吸附有气体原子。当其他气体原子靠近这些吸附原子并达到“埃”量级距离时，气体原子即被电离。场离子显示器（FID）在F1D中，不能用正离子流直接轰击荧光屏。用离子流轰击荧光屏不但发光效率不高，而且会损坏荧光屏。因此，需要采用微通道板(micro-channelplat)将离子流转换成电子流。场离子显示器（FID）6.2.2FID的结构和工作原理FID由背板、内板和面板三块间隔几百微米的玻璃平板平行对准组合而成。FID的总厚度与屏面大小有关，一般为5～20mm，周边用低熔点玻璃封接，各平板上的电极引线留在外面，内部充有稀薄惰性气体，并采用x-y编码选址。图6—10为FlD整体结构示意，图6-11为局部结构剖视图。场离子显示器（FID）场离子显示器（FID）6.2.3FID的优点及发展前景与其他显示器相比，FID具有如下优点：①场离子发射比场电子发射容易实现。FID的离子发射板只需做成尖劈形长条系列，而不必做成带有栅孔的尖锥阵列。而且FID不需超高真空，加工工艺大为简化。FID克服了FED加工难度大，发射不均匀，成品率低，价格昂贵等困难。②F1D利用微通道板将离子流转换为强电