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场发射扫描电镜技术参数

一、系统基本信息：

系统名称：场发射扫描电镜。

系统数量：1套。

系统组成：主机，Schottky型场发射电子源，无交叉光路Gemini镜筒,圆形一体化样品室，5轴全自动马达驱动样品台，环形Inlens二次电子探测器，样品室二次电子探测器，背散射电子探测器，CCD摄像机，计算机系统，操作软件，真空系统，循环水冷却系统、空气压缩机、能谱仪，原装进口离子溅射仪，备用热场发射灯丝1根，导电胶带2卷。

二、用途：该设备主要用于金属材料、非金属材料、纳米材料的检测，可以对样品进行直接的超高分辨微观形貌观察和微区元素分析。

三、技术要求：1工作条件：

电源电压：220V±10V,单相50Hz，工作温度：18°C-25°C，磁场：≤3mGauss，湿度：≤60%RH，接地：独立的接地线。

仪器运行的持久性：长时间连续工作。2性能指标：

★2.1分辨率：0.8nm@15kV 1.6nm@1kV

★2.2加速电压：0.02-30kV

★2.3加速电压调整步长：每档10V连续可调

探针电流：12pA-20nA

稳定性：优于0.2%/h

2.6放大倍数范围：10-1,000,000×

电子光学系统：

电子发射源：Schottky型场发射（热场发射）电子源。

★3.2Gemini镜筒：无交叉光路设计，电子束仅在样品表面进行一次