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本发明公开了一种用于水磨石生产的抛光工艺，属于水磨石加工领域，包括机架、滑台、可调抛光装置、调节装置和间歇转动机构。本发明通过在工艺中的粗磨、中磨和细磨利用自动抛光设备完成，在自动抛光设备内部设置有可调抛光装置、调节装置和间歇转动机构，调节装置配合间歇转动机构可对水磨石进行自动托举，并且可在驱动下对其高度、角度进行调节，调节为间歇转动调节角度，无需人工手动转动，减少人工操作，有效提高工作效率；并且可调抛光装置可实现对水磨石表面进行抛光处理并且能进行多组抛光组件的轮换，配合调节装置和间歇转动机构的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117506572A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202410014788.5B23K26/352(2014.01)
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