废气处理装置及半导体清洗设备.pdfVIP

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  • 2024-02-21 发布于四川
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本申请公开一种废气处理装置及半导体清洗设备,所公开的废气处理装置包括壳体、喷淋部和第一控制阀,壳体包括废气处理腔室,喷淋部设于废气处理腔室之内,且用于向废气处理腔室内喷淋废气吸收液;废气处理腔室设有废气进口、废气出口和第一连通口,废气出口与所废气进口连通,第一连通口用于连通旁路管道,第一控制阀设于第一连通口;在废气出口与废气进口之间处于气流通畅状态下,第一控制阀阻隔废气处理腔室与旁路管道;在废气出口与废气进口之间处于气流阻塞状态下,第一控制阀连通废气处理腔室与旁路管道,旁路管道用于将废气通过第一

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117563391A

(43)申请公布日2024.02.20

(21)申请号202311491689.8

(22)申请日2023.11.09

(71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司

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