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前工程工艺知识讲座

LCD工艺原理知识讲座

•液晶显示器显示原理图

•液晶显示器显示原理图

LCD工艺原理知识讲座

•工艺流程

工艺流程

ITO玻璃投入清洗涂胶前烘

脱膜刻蚀后烘显影曝光

清洗TOPUV固化OVEN清洗

摩擦主烘预烘PI

密封胶固化

对盒热压

导电胶固化喷

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•光刻

•光刻

主要工序

n投入

n清洗

n涂胶

n曝光

n显影

n刻蚀

n脱膜

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•玻璃投入

•玻璃投入

工序作用:

位于整条生产线的最前

端，负责整片ITO玻璃基板的

投入。

管控项目:

玻璃尺寸

倒角方向

判断标准:

玻璃基板大倒角方向置于传送方向的右上角。

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•清洗

清洗

工序作用:

将投入生产的玻璃上下

表面清洗洁净，为接下来的

涂胶作准备

管控项目:

玻璃表面脏点

判断标准:

脏点数量＜10个/片

原因分析：

1玻璃表面很脏造成清洗困难，达不到清洗效果。

2设备本身长时间未打扫，造成清洗玻璃不干净。

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•涂胶

涂胶

工序作用:

在整片玻璃表面涂布一

层厚度均匀的光刻胶膜。

管控项目:

光刻胶厚度

判断标准:

t=1.5um±0.5um

原因分析：

1玻璃基板厚度不一致

2涂胶辊不平行

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•曝光

曝光

工序作用:

曝光时，玻璃表面未被掩膜版

上图形遮挡住部分的光刻胶发生化

学反应分解。

管控项目:

套刻精度（CF）对位精度（ITO）

判断标准:

△＜3um

X1、X2=5mm±50um

Y=10mm±50um

原因分析：

1CF玻璃或铬版有异常，造成套刻偏差大。

2调整系统参数可以改善对位偏差。

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•显影

显影

工序作用:

将发生化学反应的光刻胶清除

干净，使玻璃上产生想要得到的胶

膜图形。

管控项目:

图凸图凹短路断路

判断标准:

参