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本发明公开了一种用于晶圆上光刻胶的烘烤装置，所述烘烤装置为密闭式结构，烘烤装置的顶板上设有排气口，所述烘烤装置内设有若干烘烤腔，烘烤腔的底部设有加热板，待烘烤的晶圆置于加热板的上方，所述烘烤腔的顶部中央设有用于排出晶圆上光刻胶加热产生的挥发物质的通孔，且绕所述烘烤腔的侧壁上设有一圈注气孔，各注气孔外接有气体注入管线。本发明通过其结构设置，降低了光刻胶挥发物粘接在烘烤腔壁板的概率，从而降低了其掉落至晶圆上而影响晶圆品质的概率。并且，由于光刻胶挥发物几乎不粘接在烘烤腔壁板之上，也就自然的节省了相应装
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117672900A
(43)申请公布日2024.03.08
(21)申请号202211022263.3
(22)申请日2022.08.25
(71)申请人成都高真科技有限公司
地址61
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