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本发明涉及预防图案坍塌的后处理。提供了一种用于在堆叠中蚀刻特征的方法，所述堆叠包括在碳基掩模层上的图案化硬掩模。将图案从图案化硬掩模转移到碳基掩模层，其包括：提供包含含氧组分和SO2或COS中的至少一种的转移气体的流动，将转移气体形成为等离子体，提供大于10伏的偏置，以及停止转移气体的流动。提供了后处理，其包括：提供包含He、Ar、N2、H2或NH3中的至少一种的后处理气体的流动，其中提供所述流以维持介于50mTorr和500mTorr(包括端值)之间的处理压强；将后处理气体形成为等离子体；提供
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN108711552A
(43)申请公布日
2018.10.26
(21)申请号20181
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