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第一节半导体中量子跃迁的特点;半导体中与光有关的量子(电子或空穴)跃迁主要发生在导带与价带之间。
1.受激吸收
受激吸收之后出现电子-空穴对
光电导、光探测器原理。
;2.自发发射
半导体发光二极管(LED)工作原理。;半导体中量子跃迁特点:
①电子态密度高(N~1023㎝ˉ3)
量子跃迁速率大增益系数大
②量子效率高,响应速度快
(碰撞能量交换时间短)可直接调制2.5GHz
③能量转换效率高
可将载流子直接注入有源区
气体~20%,固体~5%,半导体~60-70%,量子点~100%。
④由于不纯和的相互作用,选者定则不严格
→谱线宽;第二节直接带隙与间接带隙跃迁;一.竖直跃迁与非竖直跃迁
竖直跃迁:电子跃迁的初态、终态对应着布里渊的同一波矢K。GaAs,Ⅲ-Ⅴ族、Ⅱ-Ⅵ族化合物。
非竖直跃迁:电子跃迁的初态、态终不对应着布里渊区的同一波矢K。Ge、Si中。
;二.跃迁的K选择定则
以上两种跃迁均满足:
①能量守恒
②动量守恒;三.直接带隙跃迁
光子的波数很小
直接带隙跃迁(竖直跃迁)
参与者:光子、电子、空穴
跃迁几率大,属一级微扰过程。
四.间接带隙跃迁
电子跃迁初、终态的值不相等,有声子参与();
有声子参加才满足动量守恒的跃迁称为间接带隙跃迁。
有四种量子参与的跃迁;二.跃迁几率
首先确定包括微扰在内的描述能量的哈密顿量和该系统的波函数,再求解薛定谔方程.
;;;三.电子在浅杂质能级和与其相对的能带之间跃迁
束缚电子波函数:;四.重掺杂下带-带跃迁
当掺杂浓度↑→外层电子的波函数交叠形成杂质能带→进入本征抛物线能带→带尾→带隙变窄→光谱变宽
跃迁矩阵元
;第三节光子密度分布与光子能量分布;第四节电子态密度与占据几率;第五节跃迁速率与爱因斯坦关系;跃迁速率:单位时间,单位能量范围,单位体积中发生的跃迁次数。
影响跃迁速率的几大因素,
①初态被电子占据的几率
终态被空穴占据的几率
②光子密度
③跃迁几率和,
(包括所有可能产生跃迁的态→对态函数积分)
④对于确定的光子能量,参与跃迁的电子-空穴能级对密度→折合态密度;;三.自发发射速率与受激发射速率关系
电子跃迁的初态和终态存在一个能量范围
单位能量范围跃迁速率:
总的受激发射跃迁速率
;四.增益系数与净受激发射速率关系
;2.体现晶格结构原子特性等材料对g影响。
3.体现注入载流子对g的影响,体现温度T对g的作用。
五.净受激吸收速率与吸收系数
;;一.自发发射复合速率
1.遵从严格的K选择条件;2.K选择定则松弛;2.求非平衡载流子的为非平衡载流子通过辐射复合衰减的速率
;二.非辐射复合——俄歇复合
1.定义电子和空穴的非辐射形式复合,将以声子形式释放能量转为载流子动能
2.类型
a.带间俄歇复合→较多情况
b.杂质俄歇复合
c.隔阱参与的俄歇复合
d.声子参与的俄歇复合
(c、d情况较少)
;3.自旋轨道裂矩概念
两价电子自旋磁矩互作用使重空穴带二重简并解除,轻空穴带下面出现一自旋-轨道分裂带,与带顶能量差Δ,称为自旋-轨道裂矩.
4.俄歇复合是碰撞电离产生电子-空穴对的逆过程
5.两种带间俄歇复合(三体复合,四能量态);;第七节增益系数与电流密度关系;注入半导体中载流子的行为
①.扩散(存在浓度梯度)
②.复合(辐射复合,非辐射复合)
③.泄漏(越过异质结势垒)
1.速率方程(忽略②非辐射,③泄漏)
;描述注入载流子从小到大过程
n↑自发发射I↑粒子数不反转;n↑阈值,粒子数反转,受激发射。;3.增益系数g与J的关系曲线;4.增益与激励光子能量关系
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