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磁控溅射Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的制备及摩擦学性能研究的开题报告

一、研究背景和意义

钨是一种重要的高温结构材料，在制造高温构件和耐磨件等领域有广泛的应用。钨的摩擦学性能并不理想，主要表现为磨损、摩擦系数较大等问题。为了改善钨的摩擦学性能，通常采用钨合金化的方法。而Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜是一种新型的钨合金化方法，其具有良好的耐磨性、腐蚀性和高温稳定性等特点，在机械、电子、航空等领域有着广泛的应用。

二、研究目的

本文旨在研究磁控溅射Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的制备方法和摩擦学性能，进一步优化制备工艺和改善摩擦学性能。

三、研究内容和方法

（一）磁控溅射Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的制备方法

本文将采用磁控溅射的方法制备Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜，通过改变制备工艺参数（如溅射功率、靶材组成、气氛等）来控制薄膜的厚度、成分和微观结构。同时，对制备过程中的工艺参数、设备参数和溅射条件等进行优化，以实现制备高品质的薄膜。

（二）Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的表征分析

通过X射线衍射分析、扫描电子显微镜分析等手段对制备的薄膜进行成分、组织结构和形貌等方面的表征分析，以确定薄膜的物理化学性质和微观结构。

（三）Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的摩擦学性能研究

通过摩擦学实验检测Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的摩擦系数、磨损量等指标，探究其摩擦学性能，并对其性能进行对比分析。

四、预期研究结果

预计能够得到优化的制备工艺和高品质的Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜，同时探究其摩擦学性能，并提出改善措施，为相关领域的应用提供技术支持和理论参考。

五、研究进度安排

1.文献综述：2022年1月-2022年2月

2.薄膜制备：2022年3月-2022年6月

3.薄膜表征：2022年7月-2022年9月

4.摩擦学性能研究：2022年10月-2023年1月

5.数据分析和论文撰写：2023年2月-2023年4月

6.论文修改和答辩准备：2023年5月-2023年6月

六、研究经费预算

磁控溅射设备使用费：5000元/月×12个月=6万元

材料采购费用：3万元

实验室耗材费用：2万元

合计：11万元