一种二维材料扭角MoS2的制备及二维材料扭角MoS2.pdfVIP

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  • 2024-05-29 发布于四川
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一种二维材料扭角MoS2的制备及二维材料扭角MoS2.pdf

本发明公开了一种二维材料扭角MoS2的制备及二维材料扭角MoS2,二氧化硅/硅片为衬底,钼源和硫粉为原料,在所述衬底的二氧化硅面采用化学气相沉积法进行二维材料扭角MoS2的生长;所述二维材料扭角MoS2的生长容器为石英管,石英管内通入氩气作为运载气体;在所述的石英管内还设置了两端开口的石英试管,用于放置进行化学气相沉积的钼源和衬底;氩气的流量为30~200sccm;化学气相沉积的反应温度为650~800℃。该实验工艺简单,成本低廉,所制备的二维材料扭角MoS2表面均匀平整、质量高,对于研究新型扭

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN114959637A

(43)申请公布日2022.08.30

(21)申请号202210561427.3

(22)申请日2022.05.23

(71)申请人西北工业大学

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