OPTORUN镀膜机离子源的维护保养说明.docx

OPTORUN 离子源的维护保养说明

离子源的维护和Grid的分解和组装方法

长时间运转後，石英杯内会被镀上一层的导电性膜，因此会引起输出功率下降，此时请进行打砂处理或使用洗净液（请使用不影响SiO2的洗净液）等除去膜层。

石英杯的清扫周期通常是50~100小时。（根据使用状况更改维护的周期）。

注意：请注意石英杯很容易损坏。

在对石英杯进行打砂时，请使用粒度＃100的Al粒子，并保持0.1～0.2MＰａ的低压力，离石英杯30cm以上进行打砂作业。

绝缘子的清洁

长时间使用后，GridAssy部分的绝缘子会被镀上一层的导电性膜，此会引起Grid的短路，不能正常发挥作用。并会出现ACC电流值过大或Beam电流上不去的现象，此时需清洁或交换绝缘子。由于绝缘子的清洁难度很大，建议您交换新品。

注意：确认各Grid间，2000Vdc时须20MΩ以上。

①

②维护和交换时期

各Grid间绝缘子的状态呈恶化趋势时，用打砂纸清洁其外表部。

Grid维护周期为每50~100小时确认其外观?绝缘，如有异常请及时清扫或交换。如厚度有磨损，其磨损厚度为-0.02mm时，请交换新品。

（例如：t=1.0mm的绝缘子当变为t=0.98mm时，请交换新品。）注意：请注意绝缘子很容易碎裂。

Grid的清洁

长时间使用后，各Grid的被镀上一层的导电性膜，特别是DecelGrid膜层很容易被剥离，请在不对着Grid的情况下用吸尘器除去的剥落的膜。ACCGrid和SCRGrid请用测试仪点检，表面被绝缘时请及时清洗。

注意：Grid的分解和组装方法请参考添附资料。1)浓度25%的洗净液（BR-55）里浸泡5~10小时。

（作为代替品25%的NaOH水溶液也可使用，但是洗净效果略差。）或者使用超声波洗净机，能得到同样的洗净效果。

注意：BR-55和NaOH为危险物品，使用时请小心。

用超声波洗净机时请注意Grid由于振动所引起的破损。

边用热水清洗边用清洁布擦洗Grid表面，约洗10分钟以上，NaOH和赃物等将被洗净。

用干燥机干燥。

利用Grid固定夹具（参考照片1，2），并使用#300的砂纸摩擦Grid表面直到表面的赃物和变色消失为止。

注意：不要使Grid变形。

照片１Grid固定夹具(凸侧) 照片2Grid固定夹

具(凹侧)

再用热水清洗并用清洁布擦洗Grid表面，约洗20分钟以上，洗净附着的NaOH和赃物等。

用AirGun吹散Grid上的水分。

注意：使用AirGun时注意使用不含油的清洁空气。压力在0.05～0.1Mpa之间以防Grid变形。

用干燥机干燥后，维护清洗结束。

注意：作业中须谨慎，以防止Grid的变形和破损。

本清洗仅对酸化膜(SiO2、Ta2O5)有效，因使用状态不同，也会出现洗不净的场合。

中和器的维护方法

放电室（陶瓷放电室、陶瓷盘）的清扫

长时间运转后，放电室内会被镀上导电性膜，因此会引起放射电流下降需较高RF输出,此时用打砂的方式去除膜层。但要注意不要损伤陶瓷放电室和陶瓷盘的接触面，以免漏气。打砂时请注意用胶带等进行保护。

注意：有关分解，组装请参考添附资料。

请注意不要破坏放电室上绕着的线圈的形状，转动放电室然后再取下。

RFN收集器(Collector)的清扫

长时间运转后，collector表面被氧化或形成其它绝缘膜，因此会引起发射电流下降,并且启动困难，此时用打砂的方式去除膜层。

注意：不要使收集器(Collector)变形。组装时要尽量减少陶瓷放电室和collector之间的缝隙。

Keeper和中和器主体的清扫

长时间运转后，keeper表面形成绝缘膜，因此会使动作不安定。请使用测试仪确

认附资料1离子源Grid的分解和组装方法

※请参照添附图纸进行作业。

分解１ 拆下

分解１ 拆下GridMountAssy.

GridMountAssy.

作业内容

注意点

从离子源主体上拆下GridMountAssy.

分解２

拆下QuartzChamber

QuartzChamber

MountRing

作业内容

注意点

先拆下六角螺钉，然后拆下石英杯QuartzChamber

请注意石英杯很容易碎

和MountRing。

裂。

分解３

拆下GridAssy.1

六角

螺母（M4）

六角螺钉GridMountPlate

（M5×L8―４个）

六角

螺钉

（M4

×L6

）

作业内容 注意点

拆下六角螺钉和六角螺母后再将GridMountPlat拆e

下。

分解４ 拆下GridAssy.2

GridRetainerPlate

六