触控面板黄光制程基本工艺全解.docVIP

触控面板制造工艺之黄光工艺流程全解

发布时间：-8-22

作为当前电容式触摸屏最为主流制造工艺，黄光制程始终备受关注。技术发展到今天，已经拥有非常完善工艺。本文将从黄光制程环节入手，全面简介制程中每个环节及所需注意事项。

1.PR前清洗

A.清洗：

指清除吸附在玻璃表面各种有害杂质或油污。清洗办法是运用各种化学浓剂（KOH）和有机浓剂与吸附在玻璃表面上杂质及油污发生化学反映和浓解作用，或以磨刷喷洗等物理办法，使杂质从玻璃表面脱落，然后用大量去离子水（DI水）冲洗，从而获得干净玻璃表面。（风切是核心）

B.干燥：

因通过清洗后玻璃，表面沾有水或有机浓剂等清洗液。这样会对后续工序导致不良影响，特别是对后续光刻工艺会产生浮胶、钻蚀、图形不清晰等不良现象。因而，清洗后玻璃必要通过干燥解决。当前常采用办法是烘干法，而是运用高温烘烤，使玻璃表面水分气化变为水蒸气而除去过程，此办法省时又省力。但是如果水纯度不变，空气净化等不多或干燥机温度不够，玻璃表面残存水分虽经气化为蒸气，但在玻璃表面还会留下水珠，这种水珠将直接影响后续工序产品质量。

C.十槽清洗机PR清洗机制程参数设定

1---3槽KOH溶液为0.4~0.7N，温度为60±5℃，浸泡时间为2~3min／槽纯水溢流量为0.5±0.2㎡／n.KOH溶度为1.0N~1.6N,温度为40±5℃,喷洗压为0.2~1.0kgf/c㎡,传动速度为3.0~4.5m/min,磨刷转速为85~95rpm,压力为0.2~1.0kg/c㎡，纯水温度为40±5℃，干燥机1.2.3段温度为110℃±10℃。

注：玻璃清洗干净度不够之改改进对策，恰当加入少量KOH溶液，变化KOH，溶液，经常擦拭风切口，喷洗等处，亦可调态清洗机传动速度，将传速度减慢。

2.PR涂佈

光刻是一种图像复印和化学腐蚀相结合，综合性精密表面加工技术。

光刻目就是按照产品设计规定，在导电玻璃上覆盖感光胶。

A.光刻胶配制

光刻胶性能与光刻胶配比关于。配比选取原则是即要光刻胶是有良好抗蚀能力，又要有较高辨别率。但两者往往是互相矛盾，不能同步达到。因而，必要依照不同光刻对象和规定，选用不同配比。光刻胶配制应在暗室（干净度较高房间）中进行。用量筒按配方比例将原胶及溶剂分别量好，再将溶剂倒入原胶，用玻璃棒充分搅拌使之均匀混合，普通刚配制好光刻胶中必然还存在少量因态物质微粒未能完全溶解，为把这某些未能溶解固态物质微粒滤除，咱们普通采用自然沉淀法进行过滤。

?B.涂层

为保证ITO层与光刻胶之间有良好接触和粘附，清洗后玻璃应及时送光刻工序进行涂胶。如果玻璃搁置较久或者光刻返工，必要重洗在涂胶。涂胶规定，粘附良好，均匀厚薄恰当。若胶膜太薄，针孔较多，则抗蚀能力差，胶膜太厚，则辨别率低。涂胶办法采用旋转及车混涂法。为保证胶膜质量，涂胶应在干净无尘操作箱内进行。涂胶机内温度应保持在20℃~25℃范畴内，相对温度低于60%，涂胶要在黄灯照射条件下进行，以防止光刻胶露光失效

C．前烘

前烘办法是在恒温干燥箱中烘烤，详细状况视胶种类和性质而定。

影响前烘质量重要因素是温度和时间，烘烤局限性（温度过低或时间太短），在胶膜与ITO交界面处，胶中溶剂未充分挥发，曝光后形成浮胶或使图形变形。烘烤过头（温度太高或时间太长），会导致胶膜翘曲硬化，形成不易溶于显影液中薄膜而留下来，显影不干净或胶面发皱，发黑，失去抗蚀能力。

D．PR涂胶机机台参数设定

滚轮传速与涂布轮传速为218±5转1分，干燥机传速为4.0±2m/min

光刻胶米方度为30±2mpa.s,光刻胶压入量为0.5±0.1mm.（光刻胶只能四收5次使用）光阻剂：稀释剂=10:1（依粘度测试状况而定）.注：涂布不良(涂布气泡、涂布不均匀)之改进对策，调态涂胶滴管内光刻胶滴入量。

3.曝光

当前曝光办法采用接触式曝光，因而办法所用设备简朴，操作以便，它涉及“定位”和“曝光两个步聚。定位对光刻精度影响很大，是光刻中十分重要一环，要认真对准。

普通操作程序是：光预热紫外光（UV）灯，待光源稳定后，把菲林安装在支架上；将涂有光刻胶ITO玻璃放在平台上，胶面朝上，将光刻菲林支架放下，仔细调态平台微动装置，使菲林上定位标志与平台上玻璃定位精确套合。定位完毕即可曝光，曝光后通过显影并检查定位与否对的。

曝光时间由光源到ITO玻璃距离，光源强弱，光刻胶感光性能及菲林、玻璃厚薄等因素决定如曝光时间过短，光刻胶感光局限性，则其光化学反映不充分，光刻胶抗蚀性能就会减少，显影时某些溶解，此时在投影机下可观测到胶膜发黑；若曝光时间太长，会使光刻胶本不该感光某些边沿被薄弱感光，即产生“晕光”现象，蚀刻后边原模糊或发现皱纹，使辨别率减少。

为了保证曝光质量，在操作中要注意如下几点；

（1）定位必要严格套准

（2）