镁及镁合金表面微弧氧化制备ZrO.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN102345151A

(43)申请公布日2012.02.08

(21)申请号CN201110293737.3

(22)申请日2011.10.08

(71)申请人长安大学

地址710064陕西省西安市雁塔区南二环中段33号

(72)发明人陈宏郝建民郝一鸣

(74)专利代理机构西安创知专利事务所

代理人谭文琰

(51)Int.CI

C25D11/30

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

镁及镁合金表面微弧氧化制备ZrO

(57)摘要

本发明公开了一种镁及镁合金表面

微弧氧化制备ZrO

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

权利要求说明书

1.一种镁及镁合金表面微弧氧化制备ZrOsub2/sub复合陶瓷膜的方法，其特

征在于，该方法包括以下步骤：

步骤一、以水为溶剂配制锆盐体系溶液，每升锆盐体系溶液中含锆盐

5g～30g，六偏磷酸钠5g～30g，硅酸钠2g～10g，氟化钠1g～30g，甘油

5mL～30mL，氨水2mL～10mL，调节锆盐体系溶液的pH值为4～

12，然后将锆盐体系溶液置于电解槽中静置后作为电解液；

步骤二、将待处理的镁或镁合金置于步骤一所述电解液中作为阳极，

不锈钢板作为阴极，控制电解液的温度为10℃～35℃，设定微弧氧化电源

为恒压工作方式，调节脉冲频率为300Hz～1000Hz，占空比为5％～

45％，在电压为250V～300V的条件下恒压处理10min～

30min，然后将电压升高至400V～450V恒压处理20min～60min，

即在镁或镁合金表面原位生长一层均匀致密的ZrOsub2/sub复

合陶瓷膜。

2.根据权利要求1所述的镁及镁合金表面微弧氧化制备ZrOsub2/sub复合陶

瓷膜的方法，其特征在于，步骤一中所述锆盐为醋酸锆、氢氧化锆、

碳酸锆、锆氟酸铵或锆硅酸钠。

3.根据权利要求1所述的镁及镁合金表面微弧氧化制备ZrOsub2/sub复合陶

瓷膜的方法，其特征在于，步骤二中所述微弧氧化电源为直流脉冲电

源。

4.根据权利要求1所述的镁及镁合金表面微弧氧化制备ZrOsub2/sub复合陶

瓷膜的方法，其特征在于，步骤二中所述脉冲频率为500Hz～700Hz。

5.根据权利要求1所述的镁及镁合金表面微弧氧化制备ZrOsub2/sub复合陶

瓷膜的方法，其特征在于，步骤二中所述占空比为10％～30％。

说明书

p技术领域

本发明属于微弧氧化处理技术领域，具体涉及一种镁及镁合金表面微

弧氧化制备ZrOsub2/sub复合陶瓷膜的方法。

背景技术

镁合金是应用在现代工业合金中比重最轻的一种合金，它具有较高的

强度重量比和良好的防震性能，主要应用在导弹导引系统，起落轮毂，发

动机机壳等零部件。近年来镁及其合金成为轻质结构材料重要的代替产

品。镁合金还应用在高强度、高减振性、电磁屏蔽性和要求良好的力学性

能的汽车及电子工业领域。由于镁的这些优良特性，国际上对镁的消耗日

益增加，世界各国对镁及其合金的开发研究也在积极进行。我国的镁蕴藏