用于真空晶圆处理系统的液体输送机制.pdfVIP

用于真空晶圆处理系统的液体输送机制.pdf

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(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN102224572A

(43)申请公布日2011.10.19

(21)申请号CN200980146889.1

(22)申请日2009.09.29

(71)申请人瓦里安半导体设备公司

地址美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号

(72)发明人罗杰B··费许罗伯特J··米歇尔

(74)专利代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司

代理人臧建明

(51)Int.CI

H01L21/265

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

用于真空晶圆处理系统的液体输送

机制

(57)摘要

本揭示案的液体输送机制提供一种

供单一运动轴中使用的解决方案,其允许

在较宽温度范围内将一或多个流体流动路

径连接至真空环境中。所述机制不使用尤

其在非常低的温度下容易疲劳的可挠性管

道。在一实施例中,管在经密封活塞内轴

向移动以允许液体输送。在第二实施例

中,使用波纹管来提供所需功能性。在另

一实施例中,有可能藉由利用两个或两个

以上经适当组态的机制来达成两个或两个

以上运动轴中的移动。

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

权利要求说明书

1.一种用于将工件维持在所要温度的机制,包括:

a.上面定位有所述工件的平台,所述平台中具有导管;

b.第一流体输送机制,包括:

i.中空汽缸,具有封闭端及开放端;

ii.管,具有定位在所述汽缸内的近端、自所述汽缸的所述开放端延伸的远端,以及

位于所述近端与所述远端之间的第一导管,其中所述第一导管与所述平台中的所述

导管成流体连通;

iii.第一密封元件,位于所述汽缸内,且定位在所述管的外表面与所述汽缸的内表

面之间,使得所述管可相对于所述汽缸及所述密封元件而移动,且其中所述汽缸内

所述封闭端与所述密封元件之间的体积界定第一腔室,其中所述管的所述近端位于

所述第一腔室中;以及

iv.流体通路,与所述第一腔室及所述汽缸的所述外表面连通,且用以将流体供应

至所述第一腔室中或移除所述流体。

2.根据权利要求1所述的机制,还包括:

a.第二密封元件,位于所述汽缸内,在所述第一密封元件与所述汽缸的所述开放端

之间,且定位在所述管的外表面与所述汽缸的内表面之间,使得所述管可相对于所

述汽缸及所述第二密封元件而移动,且其中所述汽缸内所述第一密封元件与所述第

二密封元件之间的体积界定第二腔室;以及

b.差动泵,与所述第二腔室连通。

3.根据权利要求1所述的机制,还包括:

a.第二密封元件,位于所述汽缸内,在所述第一密封元件与所述汽缸的所述开放端

之间,且定位在所述管的外表面与所述汽缸的内表面之间,使得所述管可相对于所

述汽缸及所述第二密封元件而移动,且其中所述汽缸内所述第一密封元件与所述第

二密封元件之间的体积界定第二腔室;

b.所述管中的第二导管,与所述第二腔室及所述远端成流体连通;以及

c.第二流体通路,与所述第二腔室及所述汽缸的外表面连通,用以供应流体或自所

述第二腔室移动流体。

4.根据权利要求3所述的机制,其中所述平台中的所述导管包括入口及出口,且所

述管为所述第一导管与所述入口连通,且所述管中的所述第二导管与所述出口连通。

5.根据权利要求3所述的机制,其中所述平台中的所述导管包括入口及出口,且所

述管为所述第一导管与所述出口连通,且所述管中的所述第二导管与所述入口连通。

6.根据权利要求3所述的机制,还包括:

a.第三密封元件,位于所述汽缸内,在所述第二密封元件与所述汽缸的所述开放端

之间,且定位在所述管的所述外表面与所述汽缸的所述内表面之间,使得所述管可

相对于所述汽缸及所述第三密封元件而移动,且其中所述汽缸内所述第二密封元件

与所述第三密封元件之间的体积界定第三腔室;以及

b.差动泵,与所述第三腔室连通。

7.根据权利要求3所述的机制,还包括:

a.多个密封

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