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{生产工艺技术}扩散

工艺说明尚德

旧底图总号

底图总号

日期签名

产品名称单晶硅电池片

SF工艺说明产品图号SF5.405.010编号

旧底图总号

第2张共7

底图总号版号01工位名称扩散工位编号KS需要人数张

4.6方块电阻测量（见附页三）

日期签名

4.6.1

旧底图总号放入片盒中，注意区分扩散面和非扩散面，扩散面一定要朝片盒的大面放置。

底图总号4.6.2

日期签名方块电阻时注意探针距硅片边缘的距离要大于1cm

《方块电阻记录表》。

产品名称单晶硅电池片

4.6.3方块电阻值要求在40±5Ω范围内，不均匀度不超过10编号

SF工艺说明产品图号SF5.405.010

插片

第4张共7

版号01工位名称扩散工位编号KS需要人数

（R最大-R最小）/（R最大+R最小）×100%即为不均匀度。张

石英吸笔，从片

附页一：装片、检验

4.7卸片、检验（见附页四）

旧底图总号4.7.1片盒盒中吸取硅片

4.7.2通过传递窗流入下道工序。

插到石英舟内。

底图总号4.8工艺参数

日期签名4.8.1扩散工艺参数

在各炉管中，均定义为01号工艺。

产品名称单晶硅电池片

SF工艺说明产品图号SF5.405.010编号

移动、放置石

时间（分钟）温度（℃）大N2小N2O2（L/min）

第5张共7

版号01工位名称扩散工位编号KS需要人数触摸屏

（L/min）（L/min）张

英舟时，一定

进炉6840~89025~3020

附页二：上桨

要小心轻放！

稳定9840~89025~3020

旧底图总号

底