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磁控溅射法制备TiN薄膜及其性能研究
，，，
张朋苏晓磊唐显琴徐洁
(，710048)
西安工程大学材料工程学院陕西西安
［］Ar/NTiN，304TiN
摘要为了研究2流量比对薄膜耐蚀性的影响采用反应直流磁控溅射法在不锈钢上制备
。Ar/NTiN，
薄膜研究了在溅射沉积过程中2气体流量比对薄膜结构形貌和耐腐蚀性能的影响并对结果进行了分
。:，NTiN，TiN，TiN
析结果表明在保持其他工艺参数不变的情况下增大流量制备薄膜薄膜主要成分为和
22
TiN;Ar/N，，，Ar/N，，
0．3在高的2条件下即低的氮分压下薄膜生长呈任意取向在低的2条件下即高的氮分压下薄膜
(200);50∶5，，0．002·m，;
择优取向氩氮流量比为时电阻率最小为Ω薄膜具有良好的导电性当氩氮流量比为
50∶5，TiN，，，TiN。
时表面平整呈现细小颗粒状并且通过盐雾腐蚀试验可知此时薄膜的耐腐蚀性能最好
［］TiN;;;
关键词薄膜磁控溅射氩氮流量比耐腐蚀性能
［］TG178［］A［］1001－1560(2020)09－0076－06
中图分类号文献标识码文章编号
DOI:10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2020.09.014
PreparationofTiNFilmsbyMagnetronSputteringMethodandEvaluationofTheirProperties
ZHANGPeng，SUXiao-lei，TANGXian-qin，XUJie
(SchoolofMaterials＆Engineering，Xi’anPolytechnicUniversity，Xi’an710048，China)
Abstract:InordertostudytheeffectsofAr/N2gasflow
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