【英语版】国际标准 ISO 10110-13:1997 EN 光学和光学仪器 光学元件和系统图纸的编制 第13部分:激光辐照损伤阈值 Optics and optical instruments — Preparation of drawings for optical elements and systems — Part 13: Laser irradiation damage threshold.pdf
- 1
- 0
- 2024-08-06 发布于四川
-
正版发售
- 废止
- 已被废除、停止使用,并不再更新修订
- | 1997-12-11 颁布
- 1、本网站所提供的标准文本仅供个人学习、研究之用,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或网络传播等,侵权必究。
- 2、本网站所提供的标准均为PDF格式电子版文本(可阅读打印),因数字商品的特殊性,一经售出,不提供退换货服务。
- 3、标准文档要求电子版与印刷版保持一致,所以下载的文档中可能包含空白页,非文档质量问题
查看更多
ISO10110-13:1997是光学和光学仪器中光学元件和系统绘图准备的标准的一部分。这部分标准主要涉及激光照射损伤阈值。以下是对该标准的详细解释:
激光照射损伤阈值是用来衡量光学元件或系统在承受一定强度激光照射后是否会发生永久性损伤的参数。它对于评估光学元件和系统的激光安全性至关重要。这个参数的测量通常包括一系列的激光照射实验,以确定在特定功率密度下元件或系统能够承受的最长时间或最大次数照射。
具体来说,激光照射损伤阈值包括以下内容:
*阈值功率密度:这是激光照射引起材料损伤的最低功率密度。它通常表示为每单位面积上的功率,单位通常是瓦特/平方米(W/m²)。
*照射次数:在达到阈值功率密度之前,激光可以照射材料的最大次数。这个参数通常表示为每次激光照射后材料能够承受的最大重复次数。
在准备光学元件和系统的绘图时,需要考虑这些参数以确保它们在实际使用中是安全的。例如,如果一个光学元件需要承受高强度的激光照射,那么在绘制该元件的图解时,就需要明确标出其激光安全性参数,如阈值功率密度和最大重复照射次数。
还需要考虑其他因素,如光学元件的几何形状、材料类型和激光类型等,以准确地确定激光安全性参数并确保光学元件在实际使用中是安全的。
您可能关注的文档
- 国际标准 ISO 10073:1991 EN 造型工具 支撑柱 Tools for moulding — Support pillars.pdf
- 国际标准 ISO 10073:1991 EN Tools for moulding — Support pillars 造型工具 支撑柱.pdf
- 国际标准 ISO 10074:1994 EN 铝及其合金硬阳极氧化涂层规范 Specification for hard anodic oxidation coatings on aluminium and its alloys.pdf
- 国际标准 ISO 10074:1994 EN Specification for hard anodic oxidation coatings on aluminium and its alloys 铝及其合金硬阳极氧化涂层规范.pdf
- 国际标准 ISO 10074:2010 EN 铝及其合金的阳极氧化 铝及其合金硬阳极氧化涂层规范 Anodizing of aluminium and its alloys — Specification for hard anodic oxidation coatings on aluminium and its alloys.pdf
- 国际标准 ISO 10074:2010 EN Anodizing of aluminium and its alloys — Specification for hard anodic oxidation coatings on aluminium and its alloys 铝及其合金的阳极氧化 铝及其合金硬阳极氧化涂层规范.pdf
- 国际标准 ISO 10074:2017 EN 铝及其合金的阳极氧化 铝及其合金硬阳极氧化涂层规范 Anodizing of aluminium and its alloys — Specification for hard anodic oxidation coatings on aluminium and its alloys.pdf
- 国际标准 ISO 10074:2017 EN Anodizing of aluminium and its alloys — Specification for hard anodic oxidation coatings on aluminium and its alloys 铝及其合金的阳极氧化 铝及其合金硬阳极氧化涂层规范.pdf
- 国际标准 ISO 10075:1991 EN 与脑力劳动有关的人体工程学原则 一般术语和定义 Ergonomic principles related to mental work-load — General terms and definitions.pdf
- 国际标准 ISO 10075:1991 EN Ergonomic principles related to mental work-load — General terms and definitions 与脑力劳动有关的人体工程学原则 一般术语和定义.pdf
- 国际标准 ISO 10110-13:1997 EN Optics and optical instruments — Preparation of drawings for optical elements and systems — Part 13: Laser irradiation damage threshold 光学和光学仪器 光学元件和系统图纸的编制 第13部分:激光辐照损伤阈值.pdf
- 国际标准 ISO 10110-14:2003 EN 光学和光学仪器 光学元件和系统图纸的编制 第14部分:波前变形公差 Optics and optical instruments — Preparation of drawings for optical elements and systems — Part 14: Wavefront deformation tolerance.pdf
- 国际标准 ISO 10110-14:2003 EN Optics and optical instruments — Preparation of drawings for optical elements and systems — Part 14: Wavefront deformation tolerance 光学和光学仪器 光学元件和系统图纸的编制 第14部分:波前变形公差.pdf
- 国际标准 ISO 10110-14:2007 EN 光学和光子学 光学元件和系统图纸的编制 第14部分:波前变形公差 Optics and photonics — Preparation of drawings for optical elements and systems — Part 14: Wavefront deformation tolerance.pdf
- 国际标准 ISO 10110-14:2007 EN Optics and photonics — Preparation of drawings for optical elements and systems — Part 14: Wavefront deformation tolerance 光学和光子学 光学元件和系统图纸的编制 第14部分:波前变形公差.pdf
- 国际标准 ISO 10110-2:1996 EN 光学和光学仪器 光学元件和系统图纸的编制 第2部分:材料缺陷 应力双折射 Optics and optical instruments — Preparation of drawings for optical elements and systems — Part 2: Material imperfections — Stress birefringence.pdf
- 国际标准 ISO 10110-2:1996 EN Optics and optical instruments — Preparation of drawings for optical elements and systems — Part 2: Material imperfections — Stress birefringence 光学和光学仪器 光学元件和系统图纸的编制 第2部分:材料缺陷 应力双折射.pdf
- 国际标准 ISO 10110-3:1996 EN 光学和光学仪器 光学元件和系统图纸的编制 第3部分:材料缺陷 气泡和夹杂物 Optics and optical instruments — Preparation of drawings for optical elements and systems — Part 3: Material imperfections — Bubbles and inclusions.pdf
- 国际标准 ISO 10110-3:1996 EN Optics and optical instruments — Preparation of drawings for optical elements and systems — Part 3: Material imperfections — Bubbles and inclusions 光学和光学仪器 光学元件和系统图纸的编制 第3部分:材料缺陷 气泡和夹杂物.pdf
- 国际标准 ISO 10110-4:1997 EN 光学和光学仪器 光学元件和系统图纸的编制 第4部分:材料缺陷 不均匀性和条纹 Optics and optical instruments — Preparation of drawings for optical elements and systems — Part 4: Material imperfections — Inhomogeneity and striae.pdf
文档评论(0)