JJF(鄂) 112-2024 氧化层膜厚标准样片校准规范.docx

湖 北 省 地 方 计 量 技 术 规 范

JJF(鄂)112—2024

氧化层膜厚标准样片校准规范

OxideFilmThicknessStandardSampleCalibrationSpecification

2024-05-14发布 2024-09-01实施

湖 北 省 市 场 监 督 管 理 局 发布

JJF（鄂）112—2024

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JJF（鄂）112

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OxideFilmThicknessStandardSampleCalibrationSpecification

归 口单位：湖北省市场监督管理局

主要起草单位：中国船舶集团有限公司第七〇九研究所

武汉大学

本规范委托中国船舶集团有限公司第七〇九研究所负责解释

本规范主要起草人：

罗锦晖（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）薄涛（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）熊瑊（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）

梁康（武汉大学）

张骋（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）

沈威（武汉大学）

丁超（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）郑锋（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）

目 录

引 言 （II）

1范围 （1）

引用文件 （1）

术语和计量单位 （1）

膜厚标准样片 （1）

标准样片 （1）

薄膜厚度 （1）

4概述 （1）

4.1原理 （1）

4.2用途 （1）

计量特性 （2）

标准样片厚度的测量范围 （2）

标准样片的厚度标称值 （2）

标准样片应具备的参数及性能要求 （2）

校准条件 （2）

环境条件 （2）

校准用设备 （2）

校准项目和校准方法 （2）

校准项目 （2）

校准方法 （3）

校准结果的处理 （3）

复校时间间隔 （4）

附录A （5）

附录B （6）

I

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II

II

引 言

本规范的编制依据JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》、JJF1001-2011《通用计量术语及定义》、JJF1059.1-2012《测量不确定度评定与表示》编制。

本规范为首次发布。

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氧化层膜厚标准样片校准规范

范围

本规范规定了厚度在10nm~1000nm之间的氧化层膜厚标准样片的校准。

引用文件

本规范引用了下列文件：T-604纳米几何量标准样板测试方法

GB/T39516-2020微纳米标准样板（几何量）

凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本规范；凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用本规范。

术语和计量单位

JJF1005界定的下列术语和定义适用于本规范。

膜厚标准样片filmthicknessstandardsample

具有膜厚特征结构的，可用于微纳米几何量测量的标准样片。

标准样片standardsample

又称标准样板，具有典型特征的，提供一个或多个标准值的实物样片。

薄膜厚度filmthickness

由基底表面和生长层薄膜表面所确定的厚度量值。注：膜厚示意图见图1所示。

基底生长层薄膜薄膜厚度(d

基底

生长层薄膜

图1 膜厚示意图

概述

原理

膜厚标准样片（以下简称标准样片）是针对集成电路工艺参数测量设备，通过复现集成电路关键尺寸量值，通过椭偏仪进行测量，在实际工作状态下对椭偏仪完成校准。

用途

标准样片是具备一个或多个典型值的专用标准样品，通过校准后主要用于椭偏仪的校准、实验室比对和能力验证等。

1

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2

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计量特性

标准样片厚度的测量范围

厚度的测量范围为10nm~1000nm。5.2标准样片的厚度标称值

标准样片的厚度为离散值，具体值依据标准样片的型号而定。标准样片的计量特性见下表。

表1 标准样片计量特性

厚度标称值

最大允许误差

10nm

±1nm

20nm

±1nm

50nm

±2nm

100nm

±3nm

200nm

±6nm

500nm

±15nm

1000nm

±30nm

注：标准样片的标准值和测量不确定度以最终校准结果赋值为准。

标准样片应具备的参数及性能要求

标准样片膜厚实际值与标称值的最大允许偏差应在±20%以内。

标准样片膜厚的年稳定性应在2%以内。

注：以上技术指标不做合格性判别，仅提供参考。

校准条件

环境条件

a) 环境温度：（20