等离子体刻蚀工艺中的OES监控技术.pdf

第37卷第2期红外与激光工程2008年4月

V01．37No．2InfraredandLaserApr．2008

Engineering

等离子体刻蚀工艺中的OES监控技术

王巍1，兰中文2，吴志刚3，孙江宏4，龚云贵1，姬洪2，柏杨1

(1．重庆邮电大学光电工程学院，重庆400065；2．电子科技大学微电子与固体电子学院，四川成都610054；

3．电子科技大学电子工程学院，四川成都610054；4．北京机械工业学院机械工程系，北京100085)

摘要：采用光学发射光谱(OES)原位检测技术，对等离子体刻蚀机中的等离子体状态进行实时监

控．讨论了其在故障诊断、分类、刻蚀终点的判断及控制方面的应用。实验平台为在新研发的高密度等离

子体刻蚀机．采用化学气体HBr／C12为刻蚀气体进行多晶硅刻蚀工艺实验，实验过程中所采集的OES数

据通过PCA法进行分析．得到与刻蚀过程相关的特征谱线。实验结果表明：OES技术适合于深亚微米等

离子体刻蚀工艺过程的终点检测及故障诊断。最后就OES技术未来发展面临的挑战进行了讨论。

关键词：等离子体刻蚀：OES；故障诊断；终点检测

中图分类号：TN405．98+2；TN29：TP211+6文献标识码：A

ofOESon

diagnosticsplasmaetching

Application

WANG

Weil，LANZhi—gan93，SUNJiang-hon94，GONGYun—guil，

Zhong·wen2，WU

JIHon92，BAIYan91

ofElectronicsofPogtsand

UniversityTelecommunications，Chongqing400065，China；2·College

(1．CollegeEngineering，Chongqing

Scienceandof

ofMicroelectronicsandSolidStateofElectronicTechnologyChina，Chengdu610054，

Electronics，University

610054

ofElectronicofElectronicScienceandofChina；4．

China；3．InstituteEngineering。UniversityTechnologyChina，Chengdu

Institute．of

ofMechanicalMachinery，Beijing100085，China)

DepartmentEngineering，Bering

calemissioninsitubeusedto

Abstract：Optispectroscopy(OES)，adiagnostictechnique，can

ofbothf