牙体缺损的修复原则—牙体预备（口腔修复学）.pptx

牙体预备;11为什么会磨成这么小？

这是把牙齿搞砸了吗？;课程目标;牙体预备的概念;牙体预备的概念;牙体预备的目的;就位道：修复体沿着牙体戴入或脱出的假象线;就位道：修复体沿着牙体戴入或脱出的假象线;倒凹：;消除倒凹：使牙齿的最大周径落在颈缘;;牙体预备的原则;牙体预备的基本原则;;生物学原则－－不影响口腔组织的健康;保护牙体组织;★对活髓的保护：

活髓牙体的机械强度明显大于死髓牙

过度的机械、化学、物理或微生物刺激会导致不可逆的牙髓炎

预备的牙多年后会发生牙髓病变

;熟悉牙体及髓腔的解剖形态

牙体预备应一次完成，“局麻下无痛操作”

间隙性、短时、轻压的切磨法

用配有水雾冷却的切割器械

;严格按照修复体的要求去预备牙体组织，尽量少预备牙体硬组织

按面的解剖形态均匀磨除牙体

沿就位道方向制备适当的锥度

;对于严重倾斜的基牙可先矫正或选择半固定修复以减少基牙邻面的牙体切割以达到均匀切磨

避免不必要的根向扩展预备

保护牙尖，避免折裂

颈缘的密合度——防龋

;保护牙周组织;1.轴面的形态

正常轴面形态的生理意义：

保证食物正常排溢道及食物流对牙龈的生理刺激作用

修复体的自洁

保持牙龈组织的张力

;;2.要恢复正常的邻接关系

能防止食物嵌塞，维持牙位、牙弓的稳定性

使修复体与邻牙相互支持并分散力

有利于每个牙在咀嚼时适应各自的生理运动

过紧→牙周膜的损伤

过松→食物嵌塞→龈炎或龋齿;3.修复体颈缘的位置

（1）位于龈缘之上：牙龈炎症较少，但不美观。

（2）边缘位于龈沟内（龈下0.5mm以内）：

增加固位

美观

减少龋病的发生

尤其适用于前牙；固位不足或临床牙冠过短者；邻面接触点在龈下或充填物已经在龈下者

（3）边缘与龈缘平齐：易形成龈炎、龋坏

;生物学宽度：正常情况下，从龈沟底到牙槽嵴顶的距离是恒定的，约为2mm，该距离称为生物学宽度（biologicalwidth）;;;4.修复体颈缘的密合性

连续、光滑，避免悬突而刺激牙龈

;修复体颈缘预备的原则

易于预备，不能存在无基釉

在印模和代型上易于辨认

在蜡型制作时能提供清楚的边界

要使蜡型不变形，制作后的修复体边缘有足够厚度和强度

保证其他标准达到要求的前提下，尽量保存牙体组织

;修复体颈缘的牙体预备形式

肩台：是指牙体预备时，在基牙颈部形成的台阶状结构

颈缘形式分为有肩台和无肩台：刃状、斜面形、凹形、肩台形、斜面肩台形

;刃状肩台

特点：

牙体切割量小

边缘辨认不清

适用：

仅下颌后牙舌侧

轴面突度过大的牙和倾斜牙;凹形肩台

特点：

牙体切割量小，没有无基釉形成

易于辨认

适用：

金属全冠

金瓷冠舌侧;;;;;;;协调;保护口周组织;;相关定义;如果给下面图形套一个匹配形状的帽盖儿，哪个帽盖盖得更牢？;固位的原理;摩擦力;摩擦力的影响因素及应用：

与两物体间所受的正压力成正比，接触面接触越紧密，接触点间的压强就越大，摩擦力也就越大

;;与牙外形以及洞形的几何形状有关;约束和约束反力;;锥度：又叫轴壁平行度、聚合度

轴壁相互平行可增加修复体对牙体的约束力和摩擦力，有利于冠固位

从龈方向方2°—5°;聚合度较小，水平分力虽有使冠脱位的趋势，但对侧牙体组织阻止脱位

聚合度过大，全冠受外力时对侧牙体无阻挡，致使冠脱位;预备体的聚合度变大，抵抗区的面积变小;对轴面进行牙体预备时注意车针的方向;;龈高度

龈高度大者，提供的固位面积大

修复体对牙体的约束力也大

抗轴向脱位力相应加强，并且增加了摩擦力及对抗侧向旋转力的作用

;粘结力;粘接力的形成：

分子间结合键的键力

吸附力

分子引力

机械嵌合力

;粘接力影响因素

粘结力与粘着面积成正比

粘结力与粘结剂的厚度成反比

粘着面适当粗糙可增强粘结力

粘着面保持清洁

粘结剂调拌的稠度应适当

粘结剂的理化性能;符合固位形要求的备牙要求

合适的聚合度

适当粗糙的表面

较大的表面积：龈距离、预备体宽度

避免应力集中：点、线、脚要圆钝

清晰边缘预备

固位形;复习;生物学原则－－不影响口腔组织的健康;机械力学原则;固位的原理;临床常用的几种固位形;环抱固位形

最基本的固位形式，固位力强，牙体切磨表浅，对牙髓影响小，提供的粘结面积大

影响固位的因素：

龈高度

轴壁平行度（聚合度）

修复体的密合度：修复体越密合，与预备体之间的摩擦力越大；粘结剂的厚度合适

;;;;洞固位形

又称箱状固位形，是陷入牙体表面外形规则的洞

常见患牙龋洞的嵌体修复;;钉洞固位形

是深入牙体内的一种较好的固位形式，牙体磨除少，固位力强，常与其他固位形合用;沟固位形

凹入牙体表面的半圆形固位形式，沟的一侧不被牙体组织包围，常用于３/４冠，它有较强的抗水平以及抗向脱