薄膜技术复习题.docVIP

简述薄膜的形成过程。

薄膜：在被称为衬底或基片的固体支持物外表上，通过物理过程、化学过程或电化学过程使单个原子、分子或离子逐个凝聚而成的固体物质。主要包括三个过程：〔1〕产生适当的原子、分子或离子的粒子；〔2〕通过煤质输运到衬底上；〔3〕粒子直接或通过化学或电化学反响而凝聚在衬底上面形成固体沉淀物，此过程又可以分为四个阶段：〔1〕核化和小岛阶段；〔2〕合并阶段；〔3〕沟道阶段；〔4〕连续薄膜

图2为溅射镀膜的原理示意图，试结合图表达溅射镀膜的根本过程，并介绍常用的溅射镀膜的方法和特点。

图2溅射镀膜的原理示意图

过程：该装置是由一对阴极和阳极组成的冷阴极辉光放电结构。被溅射靶〔阴极〕和成膜的基片及其固定架〔阳极〕构成溅射装置的两个极，阳极上接上1-3KV的直流负高压，阳极通常接地。

工作时通常用机械泵和扩散泵组将真空室抽到6.65*10-3Pa，通入氩气，使真空室压力维持在〔1.33-4〕*10-1Pa,而后逐渐关闭主阀，使真空室内到达溅射电压，即10-1-10Pa，接通电源，阳极耙上的负高压在两极间产生辉光放电并建立起一个等离子区，其中带正电的氩离子在阴极附近的阳极电位降的作用下，加速轰击阴极靶，使靶物质由外表被溅射出，并以分子或原子状态沉积在基体外表，形成靶材料的薄膜。

将欲沉积的材料制成板材——靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。系统抽至高真空后充入