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引子：光源变化决定光刻机高度6
回顾历史，光源变迁推动光刻机发展6
从电光源到同步辐射光源，光源变化历史8
同步辐射光源光刻产业化需配套光刻系统升级11
同步辐射光源结构和原理11
SR光刻与EUV光刻曝光原理相同，光路大幅简化12
同步辐射光刻技术在产业化上的难点14
SSMB方案适用于EUV光刻，具备产业化优势17
相较于SR光源，SSMB方案光束相干性和功率更优17
LPP-EUV方案渐进瓶颈，SSMB具有产业化优势18
HEPS投资规模较大，基本实现核心零部件自主可控21
参照同步辐射光源，激光调制为SSMB独特
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