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第八章真空镀膜机设计

TheDesignofVacuumCoatingEquipments01先功能，后结构。先给出指标参数、生产要求、功能02先核心，后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距03先局部，后整体。再由整体，定局部。04先设计，后校核。由粗到细。8.1真空设备设计原则镀膜方法：CVD，PVD（蒸发、溅射、离子镀、复合镀）1被镀工件的形状、尺寸；工件架尺寸；真空室尺寸；2生产方式：连续、半连续、周期式。生产周期。生产量。生产速率。3技术参数：设备极限真空度、工作本底真空度、工作真空度、工作气氛；4漏率、抽空时间、恢复真空时间。5工作（烘烤）温度；（热处理炉、冻干机）6膜厚不均匀程度；7功率；最高电压；8镀膜机常用技术指标8.2真空镀膜机的分类

——按作业方式划分1间歇式（周期式）特点：一个真空室。如钟罩式、盒式的蒸发、溅射镀膜机。2一个周期内的工序：装料、抽空、镀膜、放气、出炉。3半连续式（节拍式）特点：常常有2个或2个以上真空室，双室有不同的真空度。4节拍式作业。如大卷绕半连续蒸发镀膜机、枚叶式节拍溅射镀膜机。5连续式特点：有多个真空室，分别完成不同的功能，保持真空度不变。6基片（工件）依次从一端进入，从另一端输出。01真空室与机架02源—基系统（蒸发源、溅射靶+工件架）03真空系统04供电系统05测量与控制系统06水冷系统07充气系统08其它辅助系统真空镀膜机的构成8.3真空室与机架

------1结构布置01020304立式——中轴线垂直，高度尺寸大卧式——中轴线水平，长度尺寸大。又分立卧（高度尺寸第二大）平卧（高度尺寸最小）钟罩式（垂直提升，有机架、台面）1扁箱式（平板形基片）如立卧或平卧、周期或连续式、平板玻璃镀膜机2方箱式前开门3圆筒式前开门，蚌壳炉（门大，可装大工件）。4盒式长方形圆形上揭盖（垂直提升，有机架、台面）5球形适于化学气相合成，可接许多接口（分析仪器），并都对准中心63真空室与机架7------2外形88.3真空室与机架

------3功能作用与要求形成并保持真空环境；耐压要求、漏率要求、耐温要求摆放、布置内外各个系统；提供安装位置、接口、并要便于作业功能作用与要求8.3真空室与机架

------4构成与附件室体——壁厚考虑强度，水冷考虑温度（盘管式、间壁式），焊接考虑工艺1法兰——门与接口的法兰，要符合标准，接管的加工工艺2门——强度问题、大法兰平整问题、密封问题（钟罩式、开门式）、门拉手、门锁3门轴支撑结构（钟罩悬挂、开启式、简单与复杂门轴、弯臂式、双自由度或平动）48.3真空室与机架

------4构成与附件观察窗——基本要求：看得清；底板——支撑整个真空室和工件，厚，开许多接口，底板布置01保持真空、橡胶密封低真空普通窗、金属密封超高真空石英窗。特殊要求：防污染。防污染措施：转动式或百叶窗式挡板、卷膜、双层玻璃。内部照明：借助烘烤灯、辉光、弧光，专用灯。028.3真空室与机架

------4构成与附件动密封——用途：工件转架、、工件传送、各种挡板、转靶、机械手（拨叉、送料杆）波纹管及胶片密封，磁耦合传动，磁流体密封支撑与绝缘件——橡胶圈、皮碗密封（不能用润滑液，低速蠕动），辐射与屏蔽屏——123454工件架------1功能作用与要求多装料装卡要求利于膜厚分布满足对基片的要求（加偏压、加热冷却）0103020405064工件架01------2结构形式02与真空室形式及源靶布置方式相匹配03包括静止工件架、基片转架和多自由度工件架04静止镀镜杆式工件架，小车式05三球面行星轮系（钟罩式室体、小平面蒸发源、上拨动）068.4工件架

-------2结构形式公转与自转-行星杆系（立式前开门体、中心圆柱靶或两侧平面靶或多弧）蒸发（或溅射）用多自由度旋转平台（盒式室体、多功能实验设备，可调3维位置和角度）筒形工件架2种（多弧镀钻头）（堆积滚动、镀膜电阻，小元件表面）大卷绕系统（半连续）连续镀膜送件平台（卧式胶辊，立式槽轮，带小车）8.4工件架------3工件装卡（夹）方式

020304050601夹挂卡电弧离子镀镀钻头的多种装法粘插8.4工件架

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