行业全面回暖　OLED材料迎国产化突围.docx

行业全面回暖OLED材料迎国产化突围

光刻工艺的过程可概括为涂胶、曝光、显影等环节，光刻胶配套试剂是光刻工艺中与光刻胶配套使用的湿化学品，主要包括增黏剂、稀释剂、去边剂、显影液、剥离液等。光刻胶按下游应用领域可分为PCB用、LCD/OLED面板用和集成电路用光刻胶等，与光刻胶配套试剂一起在光刻工艺中作为耗材，其中集成电路用光刻胶壁垒最高，增速高于整体光增速。

PCB光刻胶包括干膜光刻胶、湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨。面板用光刻胶包括薄膜场效应晶体管（TFT）光刻胶、彩色光刻胶、黑色光刻胶和触摸屏用光刻胶。集成电路光刻胶经历了从紫外光源到深紫外光源，再到极紫外光源的发展过程，包括紫外宽谱光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶和EUV光刻胶。

晶瑞电材ArF高端光刻胶研发工作在有序开展中，部分样品已开展客户送样验证工作，眉山晶瑞1200吨光刻胶产线投产，尚处于产能爬坡阶段。华懋科技参股子公司徐州博康有ArF、KrF以及I线光刻胶在客户端验证中，部分型号已对晶圆厂批量供应。

南大光电注于ArF193nm光刻胶的研发和产业化，其宁波控股子公司的光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力，能够实现从光刻胶原材料到光刻胶产品及配套材料的全部自主化，目前研发的三款ArF光刻胶产品已在下游客户通过认证并实现销售，多款产品正在主要客户处认证。宁波公司的销售收入中，ArF光刻胶销售占比尚不到10%，需要进一步地加强技术研发和量产工艺完善。