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碳化硅陶瓷制备技术的进展
目录
碳化硅陶瓷制备技术的进展（1）．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
内容概括．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
1.1碳化硅陶瓷简介．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
1.2研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5
碳化硅陶瓷的基本性质及应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6
2.1碳化硅陶瓷的主要特性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7
2.2碳化硅陶瓷的应用领域．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7
碳化硅陶瓷制备方法研究进展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8
3.1物理气相沉积法制备技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9
3.2化学气相沉积法制备技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
3.3溅射沉积法制备技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11
3.4等离子体增强化学气相沉积法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12
3.5其他制备技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12
材料性能优化与提高．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13
4.1合成工艺改进．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14
4.2成分调控．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14
4.3表面处理与表面改性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15
应用实例分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
5.1石墨烯/碳化硅复合材料．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17
5.2高温抗氧化涂层．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18
5.3耐高温隔热材料．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19
技术挑战与未来展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20
6.1面临的技术难题．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21
6.2发展趋势预测．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21
结论与建议．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22
7.1总结主要研究成果．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23
7.2对后续研究的建议．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24
碳化硅陶瓷制备技术的进展（2）．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
一、内容概要．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
1.1碳化硅陶瓷简介．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26
1.2制备技术发展的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27
二、碳化硅陶瓷的基本性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27
2.1物理性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28
2.2化学稳定性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29
2.3热学性能．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30
三、传统制备方法回顾．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31
3.1反应烧结法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31
3.1.1基本原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．
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