现代数控超精密光学加工.pptVIP

现代光学加工随着近代光学和光电子技术的飞速开展，光电仪器，以及构成这些光电仪器的光学元件发生了深刻而巨大的变化；用作光学零件或光电元件的材料已不仅仅是玻璃或晶体，而塑料、金属、陶瓷及半导体等其他材料也已得到了广泛的应用光学零件的类型也不仅仅是球面透镜或棱镜，而是越来越多地采用非球面透镜和衍射光学元件等新兴光学元件。

非球面光学数控加工技术超光滑外表加工技术衍射光学元件制造技术

非球面外表加工和检测比较困难的主要原因：1.大多数非球面只有一根对称轴，而球面有无数对称轴，所以非球面不能采用球面加工方法加工。2.非球面各点的曲率半径不同，球面那么是各点都相同，所以非球面面型不易修正。3.非球面外表对该零件的另一面〔平面或球面〕的偏斜无法用球面透镜时所使用的定中心磨边的方法来解决。4.非球面一般不能用光学样板来检验光圈，所以检验方法复杂而费时。

数控加工精度主要取决于测量的精度和所采用的误差校正方法。机床精度对加工的影响不会成为非常主要的因素。研究和开发数控加工方法的目的在于不需完全依赖熟练的加工技能而加工出精度高，价格较低的非球面光学外表。

对于直径较小或非球面度很大的非球面零件，一般先用计算机控制的精密磨床将零件外表磨削成所要求的面型，再用柔性抛光模将此外表抛光。对于直径较大，非球面度不大的精密非球面透镜或反射镜，那么先用通常的研磨抛光方法将其外表加工成最接近的球面，然后用计算机控制的抛光机将此外表修改成所要求的非球面。

Preston假设1927年Preston指出，在很大的数值范围内，抛光可以描述成一个线性方程：式中，K为比例常数，它由除速度和压力以外的其他因素所决定；V为外表某一点(x,y)和瞬时(t)的抛光速度，V=V(x,y,t)；P为该点(x,y)和瞬时(t)时的压力，P=P(x,y,t)；

现代光学加工步骤开粗粗磨细磨抛光镀膜其他

开粗切割范围=1.3mx1.3m直线定位精度=+/-0.08mm切割速度范围=0–500ipm

开粗方式——水刀优点：1.原料损耗小；2.切割时材料温度变化较小；3.粗坯毛刺少；缺点：1.随着切割材料变厚，射流锥角误差越创造显；2.切割速度过快，容易造成崩边；

粗磨通过集成5轴铣削和超声波加工，适用于硬脆材料的高精度加工

粗磨——铣床性能指标5轴联动〔X/Y/Z/A/C〕行程：X*Y*Z轴650mm×650mm×560mmA轴+120°~-120°，C轴360°旋转工件台尺寸≥Φ650mm机床精度：X/Y/Z轴≤8μm外表粗糙度Ra≤0.6μm

细磨

细磨——LOH铣床特性加工工件最大直径500mm加工材料：玻璃、陶瓷、晶体及类似材料可加工球面、非球面、平面、柱面、棱镜、圆顶、棒料和其他复杂面型

抛光特征用途：IRP600为7轴数控抛光机，专门用于对玻璃及蓝宝石等工件进行极精密的面型加工，可以实现大口径非球面，自由曲面制造及精密光学面型抛光修正。

抛光——ZeekoIRP600性能参数：七轴：线性轴X/Y/Z，旋转轴C/A/B/HX/Y轴700mm，Z轴300mm，A轴±180°，B轴±90°可抛光工件：自由形状或立轴工件尺寸700×700mm旋转对称工件尺寸1000mm×1000mm抛光面型精度：可达λ/10

抛光特征用途：可实现大口径平面、球面、非球面以及自由曲面制造及精密光学面型抛光修正。是亚洲地区唯一一台一米级口径埃米级精度磁流变加工设备。

抛光——QEDQ22-950F性能参数可加工材料：光学玻璃，熔石英，单晶材料〔硅、锗、氟化钙、蓝宝石等〕，陶瓷〔碳化钨、碳化硅〕等；可加工面型：平面、球面、共轴/离轴非球面、自由曲面等可加工元件尺寸：圆形Φ900mm长方形/自由曲面1100×900mm面型加工精度：〔P-V〕可达λ/20外表粗糙度：〔RMS〕可达0.3nm

镀膜特征用途：高真空专用光学镀膜机可适应大批量生产，可以高精度，高均匀地镀制金属、氧化物等材料的多层膜，适用于镀制各类中大尺寸的金属、玻璃灯光学制品。

镀膜——韩一真空镀膜机性能参数真空室面积：2050×1673mm真空极限：8.0E-7Torr〔无基片/无加热〕工件架温度稳定度：300℃±10℃3/sec以下镀膜光学特性：550nm±2%

单点金刚石车床特征用途：可用于平面、球面、非球面，以及大口径非对称自由面的光学元件加工，也可用于其它超精密机械元件加工。可加工各种材料的光学镜片模具，光学透镜和反射镜，微阵列和微结构器件，非球面眼睛镜片和渐变式镜片，F-θ透镜，各种显示屏和照明屏幕等。

性能参数轴数：五轴/三轴最大车削直径：350mm程序分辨率：0.1nm面型精度：〔P-V〕≤0.1μm外表粗糙度：〔Ra〕≤2μm配备快刀伺服FTS系统，光学对刀装置和非球面程序生