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环保节能清洗世界第37卷第3期

环保节能CleaningWorld2021年3月

文章编号：1671-8909（2021）3-0066-004

电子工业用超纯水设备技术及应用

杜荣东，王建斌，丁同喜123

（1.中亿丰建设集团股份有限公司，江苏苏州215131；

2.苏州市水都环境工程设备有限公司，江苏苏州215129；

3.奥加诺（苏州）水处理有限公司，江苏苏州215126）

摘要：超纯水是应用去离子化、反渗透技术、离子交换等技术生产出来的水。针对集成电路生产用水水质要

求高的现状，设计开发了超纯水系统，设计采用Makeupsystem+Polishersystem组合工艺，制备电阻率＞18

MΩ·cm；DO＜5ppb；Particle＜1pcs/ml；Silica＜1.5ppb；TOC＜1.5ppb的超纯水。

关键词：电子工业；超纯水；技术；应用

TU991.2A

中图分类号：文献标识码：

0引言1.1多介质过滤器

多介质过滤器（MMF）主要用途是去除原水中的

半导体、集成电路芯片、液晶显示、微电子工业、悬浮杂质及胶体。水中的悬浊粒子或胶状粒子等其表面

高精度线路板、光电器件等生产过程中需要用大量的超带有负电荷而相互排斥，添加带有相反电荷的凝集剂

纯水清洗半成品、成品。（FeCl3/PAC）以中和电荷，水中中的胶质以及悬浮物就

超纯水是将水中电解质几乎全部去除，将悬浮物、会被聚合生成较大块絮状物，从而被过滤器去除。长期

微生物、微粒子、有机物、溶解气体等降至极低的程度。使用后，大量的絮状物会堆积在无烟煤层，增加流水阻

25℃时，超纯水的理论电阻率为18.25MΩ·cm。力，降低过滤的效果，此时以简单的逆洗工程即可在短

电子工业中制造超纯水主要是用于晶片制造、机台时间内恢复过滤能力。

一般用水、设备零件清洗、化学品稀释等。其中晶片制MMF内的滤料从下到上依次为：砂利（Ф12-Ф20）、

造用水主要包括酸洗后冲洗用水、有机溶剂清洗用水、砂利（Ф8-Ф12）、砂利（Ф4-Ф8）、砂利（Ф2-Ф4）、

黄光显影后清洗用水、机械研磨清洗用水等。沙（Ф0.5）、无烟煤。当采用锰砂时，可去除铁锰。自

水中的杂质会影响产品的质量。重金属会导致氧化来水进入MMF之前，会在原水槽内加入NaCLO，杀

膜的绝缘不良，减少寿命。无机物会形成异物，造成膜死微生物。在PAC投加同时，会加入HCL，调节原水

后不均，也会加速腐蚀。溶解氧会导致纯水生菌，使树的PH值。因为PAC在微酸性条件下，絮凝效果更好。

脂劣化，影响晶片负氧化薄膜的厚度。有机物会导致晶FeCl3少量，SDI大于4，FeCl3过量，会在ACF形成后

片表面氧化及结晶缺陷，元件性能劣化，导致蚀刻不均凝集。无烟煤板结后，可用NaOH浸泡。

匀，清洗效率不佳。MMF的运行管理参数主要包括SDI、余氯、运

转时数、压差等。定期测量MMF出口的SDI，调