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半导体芯片废水高标准处理工艺效能特征.docx

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半导体芯片废水高标准处理工艺效能特征

半导体芯片废水高标准处理工艺效能特征（1）．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

一、内容综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

内容概览．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.1半导体芯片废水处理的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5

1.2废水处理工艺的发展概况．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5

半导体芯片废水特征．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

2.1废水来源及成分．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7

2.2废水水质波动及特点．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7

二、高标准处理工艺概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8

高标准处理工艺定义及目标．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9

1.1工艺效能标准．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9

1.2工艺设计原则．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

高标准处理工艺技术应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11

2.1物理处理法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12

2.2化学处理法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13

2.3生物处理法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14

三、半导体芯片废水处理工艺效能特征分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15

处理效率及稳定性分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15

1.1去除效率对比研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16

1.2稳定性评估指标及方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

能耗及成本控制分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

2.1工艺流程的能耗评估．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

2.2成本控制策略及实施效果．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19

环境友好性分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

3.1污染物减排效果评估．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

3.2环境影响评价．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21

四、半导体芯片废水处理工艺优化措施．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22

工艺参数优化调整．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22

1.1操作条件优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

1.2反应器设计改进．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

新技术应用及推广．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

2.1新兴技术介绍及应用前景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

2.2技术推广的瓶颈及解决方案．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26

五、案例分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27

典型案例选取及介绍．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27

案例分析总结及启示．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28

六、结论与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29

半导体芯片废水高标准处理工艺效能特征（2）．．．．．．．．．．．．．．．．．30

内容描述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．

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