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容性耦合氩_甲烷等离子体放电条件对石墨烯薄膜品质的影响.pdf

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摘要

摘要

等离子体增强化学气相沉积(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,

PECVD)具有生长温度低、沉积效率高、易于操作等特点,已广泛应用于半

导体工业、光伏产业等领域。同时PECVD也面临着一些挑战,例如薄膜的均

匀性差以及薄膜厚度难以控制。为了实现对薄膜品质的精确调控、满足不同

工业应用的需求,因此对等离子体参数的控制以及生长条件的选择仍需要进

一步完善。随着

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