等离子体处理沟道技术赋能SnOx薄膜晶体管性能提升研究.docx

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2025-04-26 发布于上海
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等离子体处理沟道技术赋能SnOx薄膜晶体管性能提升研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在半导体领域中，薄膜晶体管（Thin-FilmTransistors，TFTs）作为最基础且重要的三端电子元器件，已然成为推动现代电子技术发展的关键力量，被广泛应用于平板显示、射频标签等消费类产品，以及新兴的光电探测、光敏神经突触和人工智能等前沿领域。SnOx薄膜晶体管作为氧化物半导体薄膜晶体管中的重要一员，凭借其独特的物理性质和电学特性，在半导体领域占据了重要地位。一方面，SnOx具有良好的光学透明性，这使其在透明电子学领域，如透明显示器、透明传感器等方面展现出巨大的应用潜力，能够满足现代电