《电子工业超纯水用再生水处理工程技术规范》编制说明.docxVIP

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一、编制依据

根据《工业和信息化部办公厅关于印发2023年第三批行业标准制修订和外文版项目计划的通知》（工信厅科函〔2023〕291号）的要求，由中国电子系统工程第二建设有限公司会同有关单位，共同编制《电子工业超纯水用再生水处理工程技术规范》（计划号：2023-1772T-SJ）的编制工作。

二、编制目的

?超纯水在电子行业，特别是半导体、液晶面板、光伏硅片发热制造中起着至关重要的作用，直接影响到产品的良率和生产效率。超纯水主要用于清洗硅片、光刻和蚀刻等环节，可以有效地去除硅片表面的微小颗粒和杂质这些污染物，确保半导体制造的高纯度要求。研究表明，沾污带来的缺陷引起的芯片电学失效比例高达80%，因此超纯水的纯度对半导体元件的良率有着直接的影响。

超纯水的制备过程非常复杂，需要经过多道处理工序，包括多介质过滤、活性炭吸附、离子交换、反渗透膜、紫外线杀菌、电渗析、超滤、纳滤、真空脱气等多个环节。这些工艺环节确保了超纯水的纯度接近绝对纯度，电导率接近18.24MΩ?cm的理论极限值。因此，电子企业对超纯水制备系统进水中的小分子有机物、硼、硅浓度有严格的要求，以降低处理难度。

电子行业属于高耗水行业，水量需求大，据统计2022年全球半导体制造新水取用量7.31亿m3，中国大陆用水1.26亿m3。2023年全球面板制造新水取用量约18亿m3，中国大陆用水约9.6亿m3。随着我国高端电子行业自主生产的刚性需求，电子级超纯水需求将大幅增加，传统水资源越来越难以满足快速增长的纯水制备需求。

再生水是一种重要的工业用水水源，未来进一步拓展城市再生水在电子级超纯水制备中的应用将是我国电子行业高质量发展的重要支撑。但是，现有再生水水质标准体系并不完善，仅涉及工业冷却水、洗涤水、锅炉用水等工业用水水质，再生水处理工艺也缺少适用于超纯水制备的原水，电子企业对再生水品质存在顾虑，无法有效推进再生水的回用。

本规范在再生水厂、安全防护和监测控制、施工与验收、运行、维护及管理等方面针对超纯水用再生水水厂提出更具体、更有针对性的技术规范和要求，促进国内利用再生水制备超纯水整体水平的提高，为推动国内电子行业高质量发展、加快国产化替代提供基础保障。

三、编制原则

1.通用性原则

本规范属于电子工业行业标准，规范将结合电子行业需求及超纯水水质特点，针对再生水的处理，全面研究再生水水源选择、预处理、精处理等方面的工程设计要求，提出适用于电子工业超纯水用再生水的工程建设标准。

2.协调性原则

本规范的编制针对电子工业超纯水用再生水处理工程建设需求，细化个性化要求，如水源、预处理、反渗透、离子交换、高级氧化处理等，同时与《城镇污水再生利用工程设计规范》、《城市污水再生利用工业用水水质》、建筑防火、给水排水等相关规范相协调，确保本规范中的技术内容不存在重复交叉和矛盾的情况。本规范所提出的规定内容、深度或格式要求，与现行有效的相关法规、标准、规范、规程相协调，避免重复、矛盾；同时还考虑与相关国际标准的衔接、协调问题，以及与国际工程惯例相互适应的问题。

3.创新性原则

电子工业超纯水用再生水在国内属于电子和水处理新兴交叉行业，是十三五、十四五期间重点鼓励发展的行业，国内近年才随着电子产业的发展和应对水资源短缺而发展的。本规范是首次制定，填补了行业空白。本规范的编制将遵守和落实国家十四五期间的战略部署和相关要求。

4.先进性原则

本规范为国内首次制定，国际方面的标准目前也是空白。国内现有规范是一般工业回用水项目，未体现电子工业超纯水用再生水处理工程的特殊要求及特点。国际方面SEMIF98-0618总结和推荐了半导体行业厂内废水再生回用的方式和工艺路线，未对水源和水质进行规定，不适用于集中处理设施进行再生水处理。本规范的编制将结合电子化学品行业快速发展的形势和特点，充分调研国际国内技术水平，将先进的技术和工艺综合考虑到规范的技术要求中，使规范具有一定的先进性和前瞻性，为电子工业超纯水用再生水厂的规范化建设和发展提供有力支持。

四、编写方法

标准主编单位中国电子系统工程第二建设有限公司筹建成立编制组，编制组由具有丰富专业理论和实践经验，熟悉业务及有关法规、文字表达能力较强的人员组成。主编单位提出标准工作大纲，包括标准框架及主要内容，组织参编单位讨论并根据框架开展有关调研编制工作。参编单位根据本单位优势领域承担相应工作，主编单位明确编制工作分工及编制计划。

1、规范结构、书写格式、用语按住房和城乡建设部《工程建设标准编写规定》和《工程建设标准出版印刷规定》（建标〔2008〕182号）的规定执行；

2、编写工作按准备（含调研）、征求意见、送审、报批四个阶段进行；

3、所涉及技术要求能定量的要定量，不能定量的要定性，定性和定量要做到准确。