1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 电子工程/通信技术
  5. 电子设计

集成电路制造技术——原理与工艺（第3版）课件 第9章 光刻技术.pptx

集成电路制造技术——原理与工艺（第3版）课件 第9章 光刻技术.pptx

    集成电路

    制造技术

    集成电路

    制造技术

    JICHENGDIANLU

    ZHIZAOJISHU

    ——原理与工艺

    光刻技术

    第九章

    光刻技术

    JICHENGDIANLU

    ZHIZAOJISHU

    CONTENTS

    光刻时接受图像的介质称为光刻胶。

    以光刻胶构成的图形作为掩膜对其它薄膜进行刻蚀，图形就转移到晶元表面的薄膜上，所以也将光刻胶称为光致抗蚀剂。

    对于入射光有化学变化，保持潜像至显影，从而实现图形转移，

    即空间图像→潜像。

    抗蚀剂的作用；

    感光材料

    胶的主体，又称光敏剂

    聚合物材料

    光的辐照下不发生化学反应，保证光刻胶薄膜的附着性和抗腐蚀性

    溶剂

    可以控制光刻

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >