美精微高精度光刻掩膜版项目介绍.pdfVIP

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  • 2025-09-02 发布于北京
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美精微公司高精度光刻掩膜版

项目简介

(一)公司概况

1、企业名称:市美精微光电

2、成立时间:1993年12月2日

3、:2462万元总投资:3000万元

4、地点:市南山区工业区16栋1楼

5、法定代表人:胡

6、经营范围:光电产品、CAD/CAM软件及相关新材料的开发研制

和推广应用。铬版版材、铬版掩膜版的生产与销售。

7、企业法人营业号:4403012017912

(二)、项目概况

本公司自1993年成立以来,一直是一家专业化的光刻掩膜版制作

公司。光刻掩膜版是所有LCD、PDP、IC封装等生产厂商在大批量生

产之前必须制作的光罩母版,其产品的质量和精度直接影响着这些生产

厂商的量产质量,必须达到“零

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