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电子级四甲基硅烷（4MS）标准立项研究报告

EnglishTitle:ResearchReportontheStandardizationProjectofElectronicGradeTetramethylsilane(4MS)

摘要

电子级四甲基硅烷（4MS）作为一种重要的化学气相沉积（CVD）前驱体材料，在半导体集成电路、光电材料及先进封装等领域具有广泛应用。目前，国内外尚未建立统一的电子级4MS产品技术标准，导致产品质量参差不齐，制约了我国集成电路产业的自主可控发展。本研究旨在通过系统分析国内外客户需求与技术现状，制定涵盖产品外观、化学性能、物理性能及环境性能等方面的通用技术标准，填补该领域标准空白。本标准将明确电子级4MS的技术要求、检验方法、质量保证及交货条件，为半导体产业链提供可靠的材料保障，推动国内硅基前驱体技术的创新与发展。

关键词：电子级四甲基硅烷；4MS；CVD前驱体；半导体材料；技术标准；集成电路；硅基薄膜；化学气相沉积

Keywords:ElectronicGradeTetramethylsilane;4MS;CVDPrecursor;SemiconductorMaterials;TechnicalStandard;IntegratedCircuits;Silicon-BasedThinFilms;ChemicalVaporDeposition

正文

一、目的与意义

电子级四甲基硅烷（化学式：C?H??Si）是一种无色、易挥发的有机液体，不溶于水但可溶于醚类等有机溶剂。其具有极高的热稳定性（分解温度660–720℃）和化学稳定性（耐强酸、强碱），在紫外线作用下可发生氯化反应生成氯甲基三甲基硅烷。其物理特性包括：蒸汽压74.65kPa（20℃）、熔点-99℃、沸点26–28℃、闪点低于0℃、折射率1.3580、密度0.648g/cm3。

作为高性能化学气相沉积（CVD）或等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的前驱体材料，电子级4MS主要用于半导体行业中硅基绝缘薄膜（如SiO?、SiN）的制备。其可通过与水汽或氧气反应生成二氧化硅膜，与氨气或氮化物反应生成氮化硅膜，还可与其他金属/非金属化合物协同沉积形成B-Si-N、Si-C-N等复合薄膜，广泛应用于集成电路的CVD工艺及掺杂技术中。

目前，国际和国内均缺乏电子级4MS的通用技术标准，生产企业仅能依据客户需求进行定制化生产，缺乏统一的质量评价体系。这种现状导致产品一致性差、供应链稳定性不足，严重制约我国集成电路产业的技术升级和自主创新。本项目通过调研国内外IC客户需求，系统归纳产品性能指标，建立涵盖外观、结构完整性、化学性能、物理性能及环境性能的接收标准与检验方法，实现电子级4MS标准“从无到有”的突破，为半导体材料国产化提供技术支撑，推动硅基前驱体行业的自主可控发展。

二、范围与主要技术内容

本标准适用于电子级四甲基硅烷（4MS）产品的技术要求、质量保证及交货准备，主要面向CVD沉积工艺所用的硅基前驱体材料。技术内容涵盖以下方面：

1.一般要求：包括产品定义、分类及基本用途说明；

2.设计与材料规范：明确分子结构、纯度等级及杂质控制要求；

3.外观与结构完整性：规定液体色泽、透明度、颗粒物含量等视觉与结构指标；

4.化学性能：涵盖主成分含量、杂质离子（如Cl?、Na?、K?）、金属杂质（Fe、Cu、Ni等）限值；

5.物理性能：包括密度、沸点、折射率、蒸汽压等参数的检测方法及允差范围；

6.环境性能：评估产品在储存、运输过程中的稳定性及安全特性（如闪点、腐蚀性）；

7.特殊性能要求：针对CVD工艺需求，定义薄膜沉积速率、均匀性、缺陷密度等应用性能指标；

8.质量保证与交货要求：明确抽样方案、检验规则、包装规范及运输条件。

本标准将参考《GB/T1.1-2020标准化工作导则》及半导体行业相关规范（如SEMI标准），确保技术内容的科学性与适用性。

介绍修订单位：中国电子材料行业协会

中国电子材料行业协会（ChinaElectronicMaterialsIndustryAssociation，CEMIA）是经民政部批准成立的全国性行业组织，致力于电子材料的标准化、产业化与技术创新。协会下设半导体材料专业委员会，长期开展电子化学品、硅基前驱体等领域的标准研制与推广工作。本次电子级4MS标准立项由该协会牵头，联合中芯国际、长江存储、中国科学院化学研究所等单位共同推进，确保标准内容符合产业链实际需求，具备权威性与可操作性。

结论与展望

电子级四甲基硅烷标准的制定将填补国内外该领域标准空白，为半导体材料提供统一的质量评价依据，促进产业链上下游协同发展。未来，随着集成电路