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2025年3nm以下GAAFET工艺在虚拟现实设备中的应用前景报告.docx

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    2025年3nm以下GAAFET工艺在虚拟现实设备中的应用前景报告范文参考

    一、2025年3nm以下GAAFET工艺在虚拟现实设备中的应用前景报告

    1.1技术背景

    1.2GAAFET工艺的优势

    1.3虚拟现实设备对GAAFET工艺的需求

    1.4GAAFET工艺在虚拟现实设备中的应用前景

    二、GAAFET工艺在虚拟现实设备中的技术挑战与解决方案

    2.1技术挑战一：工艺制程的复杂性

    2.1.1材料创新

    2.1.2光刻技术

    2.1.3制造设备升级

    2.2技术挑战二：热管理问题

    2.2.1散热材料

    2.2.2散热设计

    2.2.3热模拟与优化

    2.3技术挑战三：功耗与能效平衡

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