探索ZnO薄膜择优取向生长制备与氧化物薄膜生长的分子动力学模拟研究.docx

下载文档

0
0
约2.73万字
约 22页
2025-10-06 发布于上海
举报
版权申诉
保障服务

探索ZnO薄膜择优取向生长制备与氧化物薄膜生长的分子动力学模拟研究.docx

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。

探索ZnO薄膜择优取向生长制备与氧化物薄膜生长的分子动力学模拟研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代材料科学与光电器件技术迅猛发展的浪潮中，ZnO薄膜作为一种极具潜力的功能材料，以其独特的物理性质和广泛的应用前景，吸引了科研工作者的广泛关注。ZnO是一种Ⅱ-Ⅵ族宽禁带直接带隙化合物半导体，室温下禁带宽度约为3.3eV，具有较大的激子束缚能（60meV）。这种特殊的能带结构赋予了ZnO薄膜卓越的光学性能，使其在紫外光区域展现出高透明性和强吸收特性，在可见光范围内也具备较高的透明度，这一特性使其成为透明导电电极的理想材料，在触摸屏、太阳能电池和液晶显示器等光电器件中发挥着