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基于分子动力学模拟的类金刚石薄膜沉积生长与微结构演化探究

一、引言

1.1研究背景与意义

类金刚石薄膜（DLC）作为一种亚稳态长程无序的非晶材料，碳原子间以共价键结合，主要包含sp^2和sp^3两种杂化键，在含氢的DLC膜中还存在一定数量的C-H键。因其具有高硬度、高耐磨性、高热导率、高电阻率、良好的光学透明性、化学惰性等一系列优异性能，在机械、电子、光学、医学、航天等众多领域展现出了巨大的应用潜力。

在机械领域，可将其应用于刀具涂层，能够显著提高刀具的耐磨性和使用寿命，降低加工成本，提高加工精度和效率。在电子领域，可用于制造电子器件的保护膜，增强器件的稳定性和可靠性，减少外界环境对器件性能的影响。在光学领域，其良好的光学透明性使其可用于制备光学窗口、透镜等元件，提高光学系统的性能。在医学领域，因其生物相容性良好，可用于生物医学植入物的表面涂层，减少植入物与人体组织之间的摩擦和磨损，降低炎症反应和感染风险，促进组织愈合和修复。在航天领域，能够承受极端的温度、压力和辐射环境，为航天器的关键部件提供保护，确保航天器在恶劣的太空环境中正常运行。

然而，类金刚石薄膜的合成过程极为复杂，不仅受到衬底和沉积源特性的显著影响，还与表面和界面的原子间相互作用以及系统热力学和碰撞动力学作用之间的竞争密切相关。在离子束辅助沉积过程中，还涉及离子注入等动力学过程。实验中，难以对轰击粒子、沉积分子与表面相互作用的动力学过程进行实时跟踪观察，许多原子层面的细节信息难以获取。

分子动力学模拟作为一种基于牛顿运动定律的计算方法，能够通过计算机仿真不断迭代模拟大量原子或分子在不同时刻下的运动轨迹和相互作用过程。通过该方法，可以从原子尺度深入研究类金刚石薄膜的沉积生长和微结构演化过程，清晰地观察到原子的运动轨迹、成键方式以及薄膜结构的动态变化。这有助于深入理解薄膜生长的微观机制，精准探索实验条件对薄膜结构的影响规律，从而为改进制备技术、提高薄膜质量提供坚实的理论依据，具有重要的科学研究价值和实际应用意义。

1.2国内外研究现状

国内外众多学者已借助分子动力学模拟对类金刚石薄膜展开了深入研究。在沉积源方面，李之杰研究了荷能的C_2和环状C_{10}团簇在金刚石(001)-(2X1)表面的化学吸附过程，发现仅当C_{10}团簇的入射能量超过某一阈值（5-40eV）时才能发生化学吸附，而C_2团簇在低能量（如0.01eV）入射时就能被吸附，且随着入射能量增加，吸附团簇结构改变。张宇军以CH_3基团为沉积物，模拟含氢DLC膜生长，发现随入射轰击能量增加，含氢类金刚石膜中碳含量总体增加，氢原子数存在峰值，大于80eV后趋于饱和稳定，薄膜相对密度在50eV时趋于稳定值，膜中碳原子比氢原子成键能力强，沉积源基团氢含量决定薄膜氢含量。

衬底对薄膜生长影响的研究中，有学者模拟不同衬底上类金刚石薄膜生长，发现衬底晶格常数、表面能等因素影响薄膜成核密度、生长取向和界面结合强度。如在晶格常数与碳原子匹配度高的衬底上，薄膜更易形成均匀连续结构，与衬底结合更牢固。

在实验条件研究方面，研究表明沉积温度影响原子扩散和迁移能力，进而影响薄膜微观结构和性能。适当提高沉积温度，有利于原子在表面迁移，形成更致密有序结构，但温度过高会导致薄膜内应力增加，甚至引起薄膜石墨化转变。

尽管取得一定成果，当前研究仍存在不足。不同研究采用的模拟参数和势函数差异大，导致结果可比性差，缺乏统一标准。对复杂多元体系类金刚石薄膜，如掺杂其他元素的薄膜，模拟研究不够深入，难以全面揭示其生长机制和结构性能关系。实验与模拟结合不够紧密，模拟结果缺乏足够实验验证，实验中一些现象也未得到模拟深入解释。

1.3研究内容与方法

本文重点研究不同沉积源、衬底和实验条件对类金刚石薄膜生长和结构的影响。在沉积源方面，选取多种不同类型团簇和基团，如C_2、C_{10}、CH_3、CH_2等，系统研究其在不同入射能量下在衬底表面化学吸附、扩散迁移和团聚成膜过程，分析沉积源种类和能量对薄膜中碳原子杂化状态、氢含量分布、缺陷形成等结构特征影响规律。

针对衬底，选择金刚石、硅、金属等具有不同晶格结构和表面性质的材料，模拟薄膜在这些衬底上生长初期成核过程、界面原子相互作用以及生长过程中薄膜结构演变，探究衬底特性对薄膜生长模式、界面结合强度和薄膜整体质量的影响机制。

实验条件上，主要研究沉积温度、离子束辅助能量和剂量等因素对薄膜生长影响。通过改变模拟中的沉积温度，分析原子热运动对薄膜生长速率、结构致密性和内应力的影响；调整离子束辅助参数，研究离子注入对薄膜成分、结构和力学性能的作用规律。

本文采用分子动力学模拟方法，基于牛顿运动定律，根据原子间作用势函数求解粒子运动方程，模拟原子在体系中运动轨迹和相互作用