薄膜沉积的共性问题第二讲.pptVIP

河北东旭投资集团郑雷/太阳能研究院设备组薄膜沉积的共性问题第二讲第1页，共12页，星期日，2025年，2月5日*等离子体在薄膜沉积中的作用基本概念离子、电子共存，整体呈电中性的物质状态形成方式电子加速到一定能量，与气体分子碰撞，使其电离或者激发（未被电离而处于激发状态）。激发阀值或者离化阀值----能使气体分子激发和电离的电子具有的最低能量值。（电子能量≥离化阀值）离化率----引起气体电离的碰撞次数与总碰撞次数的比值。离化率随电子能量的不同而变化。碰撞过程中：（a）发生有效地离化；（b）激发气体分子为激发原子、原子团或者分子等，形成活性基，增加等离子体的活性；（c）被激发原子或者分子经过极短的弛豫时间，返回平衡状态，同时发出相应的辉光。第2页，共12页，星期日，2025年，2月5日*等离子体的形成方法形成低温等离子体的基本方法：使电子带有最容易引起离化和激发的能量，由这种荷能电子碰撞气体原子，使其离化或激发，同时要求产生的等离子体具有较高的密度、均匀的分布、便于利用的形式以及良好的可控制性。第3页，共12页，星期日，2025年，2月5日*等离子体的形成方式热电子发射型二极放电型磁控放电型无极放电型ECR放电型由热阴极发射的电子被阳极加速，在奔向阳极的过程中与气体分子发生碰撞，使后者离化或者激发，形成等离子体。工作气压在100Pa-0.01Pa。离子入射冷阴极会激发出γ电子，该电子在向阳极移动的过程中，与气体分子发生碰撞，使后者离化或者激发，形成等离子体工作气压在100Pa-1Pa。原理与二极放电型一样，只是在阴极背面放置磁场，形成互相垂直的电磁场，使电子做圆周运动，增加碰撞机会，从而增加离化率。工作气压在100Pa-10-12Pa。在绝缘管外周绕以高频线圈，利用线圈产生的高频电磁波，在绝缘管内部形成等离子体。工作气压在1000Pa-0.1Pa。ECR即电子回旋共振，其是由电子回旋共振产生气体放电进而形成等离子体得方式。工作气压在1Pa-10-3Pa。第4页，共12页，星期日，2025年，2月5日*1853年Grove就观察到了溅射现象，发现在气体放电室的器壁上有一层金属沉积物，沉积物的成份与阴极材料的成份完全相同。但当时他并不知道产生这种现象的物理原因。1902年，Goldstein才指出产生这种溅射现象的原因是由于阴极受到电离气体中的离子的轰击而引起的，并且他完成了第一个离子束溅射实验。到了1960年以后，人们开始重视对溅射现象的研究，其原因是它不仅与带电粒子同固体表面相互作用的各种物理过程直接相关，而且它具有重要的应用，如核聚变反应堆的器壁保护、表面分析技术及薄膜制备等都涉及到溅射现象。1969年，Sigmund在总结了大量的实验工作的基础上，对Thompson的理论工作进行了推广，建立了原子线性级联碰撞的理论模型，并由此得到了原子溅射产额的公式。1974年，H.H.Andersen和H.L.Bay研究（实验）了低能重离子辐照固体表面，可以产生非线性溅射现象，通常称为“热钉扎”(thermalizedspike)效应。溅射镀膜的发展历程第5页，共12页，星期日，2025年，2月5日*溅射镀膜概述在真空室中，荷能粒子(电场加速的正离子)打在固体表面时，与表面的原子、分子交换能量，从而使这些原子、分子飞溅出来，落在衬底上形成薄膜。1、膜层与基体的附着力强2、方便制取高熔点物质的薄膜3、在大面积连续基板上可制取均匀的膜层4、容易控制膜的成分，可制取各种不同成分和配比的合金模5、可以进行反应溅射、制取多种化合物膜，可方便镀制多层膜6、便于工业化生产，易于实现连续化、自动化操作第6页，共12页，星期日，2025年，2月5日二溅射与二次离子入射离子轰击固体时，会直接或间接迫使固体表面许多原子运动，此过程称为级联碰撞。当表面原子获得足够能量和动量而背离表面运动时，就引发表面粒子(原子、离子、基团)发射，称为溅射。离子溅射可用来剥蚀样品，配合俄歇电子能谱分析可确定样品成分随深度的变化情况，即材料的纵深剖析。离子溅射第7页，共12页，星期日，2025年，2月5日*离子束与材料的相互作用入射离子溅射产额与入射离子的能量、入射角、靶原子质量和入射离子质量之比、入射离子的种类靶溅射产额与靶原子的原子序数相关，即原子量和在周期表中所处的位置、靶表面原子的结合状态、结晶取向以及靶材的成分。溅射产物入射离子溅射出阴极靶原子产生二次电子