特殊材料光学镀膜技术朱汉明17课件.pptxVIP

特殊材料光学镀膜技术主讲人：朱汉明

光学镀膜技术

特殊薄膜材料

常用的光学薄膜材料

磁光薄膜磁光薄膜是一种具有磁光效应的薄膜材料，即在磁场作用下，能够使通过它的光的偏振状态发生改变的薄膜。磁光薄膜具有很高的存储密度和反复擦写功能（大于10?次），成为信息记录的佼佼者。特殊材料

磁光薄膜磁光记录前景广阔特殊材料其优于普通记录，是因为磁光薄膜具有垂直于膜面的磁单轴异性，磁化强度在垂直于膜面方向自发平行取向，极小的柱畴形成非常高的面密度。信息写入过程利用薄膜的矫顽力随温度变化实现，读出过程利用磁介质的磁光效应实现。

磁光薄膜的结构、成分、厚度以及匹配膜层的界面效应，都会改变磁光盘的性能。常见的磁光薄膜材料有锰铋、铁酸钴等。磁光薄膜特殊材料

红外薄膜红外波段范围很宽，从0.76-50μm，没有一种元素或化合物的透明区能覆盖如此宽的波段，通常的做法是用多层介质膜的组合来构成各种红外滤光片。特殊材料

在红外波段中，实际可供使用的薄膜材料非常有限，介质材料的禁带宽度很大，大部分仅在可见光和近红外区透明，在中红外波段就出现长波晶格振动吸收带，许多金属卤化物的晶格振动吸收带相应的波长较长，但普遍易潮解。红外薄膜特殊材料

红外薄膜Ge-SiO膜适合近红外波段4-10μm波段用Ge-ZnS膜系8-20μm波段用碲化铅-ZnSe更长波段用碲化铅-CdSe、碲化铅–碘化铯等组合特殊材料不同膜系适用于不同红外波段:

紫外薄膜近紫外（200-400nm）真空紫外（30-200nm）软X射线（1-30nm）

紫外薄膜特殊材料有少量氧化物薄膜如二氧化铪、二氧化锆、氧化锰等可用作高折射率材料，有一些低折射率材料如LiF、MgF2等可供选择。近紫外（200-400nm）区

紫外薄膜特殊材料不再有合适的高折射率材料，仅有少数低折射率材料可继续使用。真空紫外（30-200nm）区

紫外薄膜特殊材料常使用Al-MgF2组合镀制110-200nm的紫外反射镜，还用驻波场方法设计用于146nm、170nm和190nm的准分子激光反射镜。真空紫外（30-200nm）区

紫外薄膜特殊材料在30-100nm波长范围，所有材料都表现出强吸收，只有部分金属材料如金、铂、铑、钨等还保持一定的反射率。真空紫外（30-200nm）区

紫外薄膜特殊材料只有利用金属超晶格薄膜结构才有可能获得实用的反射薄膜。软X射线区

1.在光学器件的设计和制造中，选择合适的特殊材料，设计优化镀膜结构，以提高光学器件的性能。特殊材料

2.对特殊材料的光学性能进行测试和分析，为光学器件的设计和优化提供依据。特殊材料

小结特殊场合需要使用到的薄膜。为以后工作中制备和选用特殊薄膜材料打下了良好的理论基础。

从近紫外到软X射线区，可用的薄膜材料和镀膜结构逐渐受限。若要设计一种能在全紫外区都有良好性能的光学器件，应该从哪些方面突破现有材料和结构的局限？思考题