第一章薄膜制备的真空技术基础.pptVIP

1.5真空的测量薄膜真空规薄膜式真空规是一种依靠金属薄膜在气体压力差作用下产生机械位移，从而可用于气体绝对压力测量，测量结果与气体种类无关的真空规。第30页，共42页。第一章薄膜制备的真空技术基础文档第1页，共42页。1.1真空的基本知识---大气压(atm):标准的大气压力定义为1atm---帕(Pa):N/m2(常用单位：Pa)---巴(Bar):Dy/cm2,(常用单位：mBar)---乇(Torr):1/760atm,(常用单位：Torr)第2页，共42页。处于平衡状态的理想气体分子，其热运动速度服从麦克斯韦尔-玻尔兹曼速率分布：所有气体分子热运动速度的算术平均值叫算术平均速度；把所有气体分子的速度的平方加起来，然后被分子总数除，再开方就得到均方根速度。它们的计算公式如下(平均速率是速率分布的数学期望值)：1.2气体分子运动论的基本概念温度越高、气体分子的相对原子质量越小，则分子的平均运动速度越大。1、气体分子的平均运动速度Va（1）（2）第3页，共42页。一些惰性气体在298.15K（25℃）的温度下的速率分布函数。y轴的单位为s/m，因此任何一段曲线下的面积（它表示速度处于那个范围的概率）都是无量纲的。1.2气体分子运动论的基本概念第4页，共42页。2、气体的压力和气体分子的平均自由程1.2气体分子运动论的基本概念理想气体的压力p与气体分子的动能，或者说是与气体的热力学温度成正比。分子平均自由程λ：气体分子在两次碰撞的间隔时间里走过的平均距离。式中d为气体分子的有效截面直径。气体分子的平均自由程与气体分子的密度n成反比。（3）（4）第5页，共42页。1.2气体分子运动论的基本概念3、碰撞频率Ф（气体分子通量）：在单位时间,单位面积表面受到气体分子碰撞的次数。（5）（6）在薄膜材料的制备过程中，薄膜的沉积主要是通过气体分子对于衬底的碰撞过程来实现的。此时，薄膜的沉积速度正比于气体分子通量。将式（2）和（3）代入上式，可以求出气体分子的通量：第6页，共42页。1.2气体分子运动论的基本概念真空度的划分：低真空：105～102Pa中真空：102～10-1Pa高真空：10-1～10-5Pa超高真空：10-5Pa真空蒸发方法溅射沉积技术电子显微分析材料表面分析技术低压化学气相沉积技术第7页，共42页。当真空管道两端存在有压力差时，气体就会自动地从高压处向低压处扩散，便形成了气体流动。任何真空系统都是由气源(待抽容器)、系统构件(管道阀门等)及抽气装置(真空泵)组成的，气体从气源经过系统的构件向抽气口源源不断地流动，是动态真空系统的普遍特点。1.3气体的流动状态和真空抽速第8页，共42页。1.3气体的流动状态和真空抽速1、气体的流动状态在高真空环境中，气体分子除了与容器器壁发生碰撞以外，几乎不发生气体分子间的碰撞过程。这种气体的流动状态被称为气体的分子流状态。分子流的特点是气体分子的平均自由程大于气体容器的尺寸或与其相当。当气体压力较高时，气体分子的平均自由程较短，气体分子间的相互碰撞较为频繁，这种气体的流动状态称为气体的黏滞流状态。第9页，共42页。1.3气体的流动状态和真空抽速上述两种气体流动状态间的界线可以借助一个无量纲的参数－－克努森（Knudsen）准数Kn来划分，定义为：Kn1分子流状态Kn=1~110中间状态Kn110粘滞流状态第10页，共42页。1.3气体的流动状态和真空抽速黏滞流状态的气体流动模式复杂，在低流速的情况下，黏滞流状态的气流处于层流状态；在流速较高时，气体的流动状态转变为紊流状态。所谓层流状态，相当于气体分子的宏观运动方向与一组相互平行的流线相一致。在流速较高的情况下，气体的流动不再能够维持相互平行的层流模式，而会转变为一种漩涡式的流动模式。这时，气流中不断出现一些低气压的漩涡，这种气体的流动状态成为紊流状态。如下图所示。第11页，共42页。1.3气体的流动状态和真空抽速图1.3黏滞态气流的两种流动状态