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吴汉东《知识产权法学》（第七版）第三十一章知识点

笔记

一、集成电路布图设计权制度的基础框架

集成电路布图设计权制度是技术创新保护体系的核心分支，通过规范布图设计的登记、使用与

救济，实现激励芯片技术创新与平衡产业发展利益的双重目标。其制度设计围绕权利“”“”“

界定-权利行使-权利限制”的逻辑展开，体现知识产权保护中“技术专有性与公共利用”的平

衡原则。

（一）核心概念与制度价值（基础考点）

1.集成电路布图设计：指集成电路中至少有一个有源元件的两个以上元件及互连线路的三维

配置，或为制造集成电路而准备的上述三维配置（如芯片的电路布局图样），具有技术

性、无形性与可复制性特征。

2.集成电路布图设计权：权利人对符合条件的布图设计依法享有的复制权与商业利用权，属

于兼具著作权与专利权特性的特殊知识产权，权利客体为技术设计方案而非思想本身。

3.制度价值：

◦激励技术创新：通过赋予专有权利，鼓励企业投入芯片研发，提升核心技术竞争力；

◦规范产业秩序：明确布图设计的使用边界，减少侵权仿制行为，维护芯片产业公平竞

争；

◦衔接国际规则：落实《与贸易有关的知识产权协定》（TRIPS）、《华盛顿条约》对

布图设计的保护要求；

◦促进技术传播：通过合理使用、权利穷竭等限制规则，保障基础研究与后续创新的空

间。

★高频考点：集成电路布图设计的定义与特征；布图设计权的特殊权利属性；制度价值中的创

新激励与技术传播平衡。

二、集成电路布图设计权的本体构造

布图设计权的取得、内容与限制具有鲜明的技术属性，权利行使需兼顾创新保护与产业协作需

求。

（一）布图设计权的取得（核心考点）

1.取得方式：我国采用“登记生效主义”，布图设计需经国务院知识产权行政部门登记后方能

取得专有权，未经登记的不受法律保护。

2.取得条件：

◦独创性：布图设计需为创作者自身智力劳动成果，且创作时不属于公认的常规设计；

由常规设计组成的布图设计，整体需具备独创性；

◦主体适格：中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计，或外国人创作且符合首次“

商业利用在中国境内”“所属国与中国有协议或共同参加国际条约”条件的布图设计；

◦时间限制：布图设计自首次商业利用之日起2年内未申请登记的，不再予以登记。

1.登记程序：

◦申请材料：包括登记申请表、布图设计复制件或图样、已商业利用的需提交集成电路

样品等；

◦审查流程：经初步审查无驳回理由的，予以登记、公告；对驳回决定不服的可申请复

审，对复审决定仍不服的可起诉；

◦特殊规定：涉及国家安全或重大利益需保密的，按国家有关规定办理。

（二）布图设计权的内容（高频考点）

1.复制权：对受保护的布图设计全部或具有独创性的部分进行重复制作的权利，包括直接复

制与间接复制（如通过反向工程获取后复制）。

2.商业利用权：为商业目的进口、销售或以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设

计的集成电路或含有该集成电路的物品的权利。

3.处分权：

◦转让：需订立书面合同并登记，自登记之日起生效；

◦许可：需订立书面合同，明确许可范围与期限。

（三）布图设计权的限制（重点考点）

1.合理使用：下列行为可不经权利人许可且无需支付报酬：

◦个人目的或为评价、分析、研究、教学目的复制；

◦在评价、分析基础上创作具有独创性的新布图设计；

◦对独立创作的相同布图设计进行复制或商业利用。

1.权利穷竭：布图设计或含有其的集成电路经权利人许可投放市场后，他人再次商业利用

的，无需许可且不支付报酬。

2.非自愿许可：国家出现紧急状态、为公共利益目的，或权利人存在不正当竞争行为需补救

时，国务院知识产权行政部门可给予非自愿许可，被许可人无独占使用权且需支付合理报

酬。

3.期限限制：保护期为10年，自登记申请日或首次商业利用日起算（以较前日期为准），但

创作完成15年后不再受保护。

★高频考点：登记生效主义的具体规则；独创性的认定标准；合理使用与非自愿许可的适用情

形；保护期限的计算方式。

三、集成电路布图设计权的法律保护体系

布图设计权的保护采用“专门立法+反不正当竞争法+国际公约”的多元体系，侵权认定