C2H2流量对阴极弧沉积AlTiCN涂层结构和性能的影响.pdfVIP

《热加工工艺》2020年1月第49卷第2期

CH流量对阴极弧沉积AlTiCN涂层

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结构和性能的影响

魏朝晖1,马立安1,洪丽华1,张奇龙2

(1.福建工程学院材料科学与工程学院,福建福州350108;2.明志科技大学材料科学与工程系,台湾新北24301)

摘要：采用阴极弧技术制备了AlTiCN纳米复合薄膜，利用场发射电镜、X射线光电子能谱仪、纳米压痕仪、球盘

式摩擦磨损实验机和电化学工作站研究了CH流量对AlTiCN薄膜微结构、硬度、摩擦特性及耐腐蚀性能的影响。结

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果表明：薄膜在流量为时表现为粗大的柱状结构，随流量增大至，薄膜由柱状

AlTi(C,N)CH30SCCMCH60SCCM

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转为均匀的细晶结构。AlTi(C,N)薄膜在CH流量为60SCCM时硬度达到最大值22.31GPa，较高的硬度主要源于基体

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有足够多数量的AlTiCN晶粒的支撑。薄膜摩擦系数随CH流量的增加而减小。所沉积的样品在3.5wt%NaCl溶液中

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均展现出较好的耐腐蚀性。

关键词：纳米复合薄膜；阴极弧沉积；摩擦系数；腐蚀

DOI:10.14158/j.cnki.1001-3814.

中图分类号：文献标识码：文章编号：

TG174.444A1001-3814(2020)2-0097-04

EffectofCHFlowRateonStructureandPropertiesofAlTiCNFilms

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PreparedbyCathodicArcDeposition

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