基于形状模版匹配的光刻对准方法研究.pdfVIP

哈尔滨工业大学专业学位硕士论文

摘要

抗辐射器件在核能、航空、航天等苛刻应用领域中扮演着维护电子系统长期

稳定性的关键角色，其设计与制造强调极端条件下稳定性和可靠性。目前，针对

抗辐射器件的生产，主要采用接触式与接近式光刻机，其对准方法聚焦于基于几

何图案的光刻对准技术。这一方法依赖于高清晰度的对准标记图像，且即使在存

在复杂干扰的环境下，亦需确保实现对准需求，以及寻求对准精度的进一步提升。

课题“基于形状模版匹配的光刻对准方法研究”旨在深入研究并解决上述问

题，构建针对几何图案的光刻对准方法的高效算法体系，具体研究内容概括如下：

首先，开展基于改进Tenengrad灰度梯度函数清晰度评价算法研究，用于调节

对准标记位于理想对焦位置，提供逼近理想清晰状态的对准标记图像。分析现有

无参考图像清晰度评价方法，针对抗噪性与灵敏度进行改进，仿真实验表明，所

建立清晰度评价算法，在保证评估实时性与灵敏度的前提下，显著提升了抗噪性。

其次，开展基于边缘梯度向量的形状模版匹配算法研究，以实现在对准标记

图像质量劣化情况下匹配对准标记。系统探讨了模板匹配算法的原理与实现，建

立基于边缘梯度向量的余弦相似性度量，并在此基础上针对匹配速度与鲁棒性进

行优化。仿真结果彰显了在面临干扰条件下，仍能确保对准标记的准确识别与定

位，对准标记中心点坐标匹配结果标准差约为1.0个像素，旋转角度标准差约为

0.12°，在确保鲁棒性的基础上，仍需继续提升匹配的精度。

接着，开展基于迭代最近点亚像素二维位姿匹配算法研究，为最终提升对准

精度，结合亚像素边缘提取与迭代最近点方法，对模板匹配结果实施精细化修正。

仿真结果表明对准标记中心点坐标匹配结果标准差提升至0.10个像素，旋转角度

标准差提升至0.019°，相较于原始模板匹配结果实现有效的精度提升。

最后，通过构建对准标记图像显微采集系统，结合所需位移台，利用图像清

晰度评价算法调节对准标记样品至理想清晰图像位置，并使用本课题所建立的光

刻对准方法对对准精度进行验证。实验结果表明所建立的光刻对准方法，测量不

确定度约为0.4μm(3σ)，达到课题预设要求，即对准精度≤0.5μm(3σ)，同时探究图

像清晰度对最终对准精度的影响，结果图像清晰度下降会对最终的光刻对准精度

造成不利影响，并对整体对准速度进行实验验证，结果表明实现单次对准标记位

姿获取仅需0.665s，满足对准精度与对准时间的要求。

关键词：光刻对准；几何图案；清晰度评价；模板匹配

--I

哈尔滨工业大学专业学位硕士论文

Abstract

Radiation-resistantdevicesplayacrucialroleinmaintainingthelong-term

stabilityofelectronicsystemsindemandingfieldssuchasnuclearenergy,aviation,and

aerospace.Theirdesignandmanufacturingemphasizestabilityandreliabilityunder

extremeconditions.Currently,theproductionofradiation-resistantdevicesprimarily

utilizescontactandproximitylithographymachines,withalignmentmethodsfocusing

ongeometricpattern-basedlithographyalignmenttechniques.Thismethodrelieson

high-definitionalignmentmarkimagesandensuresalignmentrequirementsaremet

eveninenvironmentswithcomplexinterferences,aimingforfurtherimprovemen